发明名称 | 一种快速选择版图图层的方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种快速选择版图图层的方法,步骤1:选择半导体工艺库文件常用图层,并对其进行识别、选择,编写某个图层的可选、可视及组合操作信息,根据某个图层与整个图层不同的组合配置对应不同的快捷键,形成一个程序脚本文件file1;步骤2:将程序脚本文件file1配置到Virtuoso软件环境;步骤3:打开版图,按快捷键进行相应的图层选择与操作。本发明使用Skill语言,自定义一些快捷键和组合快捷键,来快速选择版图设计图层,对所有的工艺库都适用,通用性强,简化了图层操作,提高工作效率。 | ||
申请公布号 | CN106096095A | 申请公布日期 | 2016.11.09 |
申请号 | CN201610379650.0 | 申请日期 | 2016.06.01 |
申请人 | 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心 | 发明人 | 吕江萍;陈超;刘霞 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人 | 耿英;董建林 |
主权项 | 一种快速选择版图图层的方法,其特征是,编写和配置基于Skill语言的程序,包括以下步骤:步骤1:选择半导体工艺库文件常用图层,并对其进行识别、选择,编写常用图层的可选、可视及组合操作信息,根据图层与整个图层不同的组合配置对应不同的快捷键,形成一个程序脚本文件file1;步骤2:将程序脚本文件file1配置到Virtuoso软件环境;步骤3:打开版图,按快捷键进行相应的图层选择与操作。 | ||
地址 | 215163 江苏省苏州市高新区龙山路89号 |