发明名称 一种快速选择版图图层的方法
摘要 本发明公开了一种快速选择版图图层的方法,步骤1:选择半导体工艺库文件常用图层,并对其进行识别、选择,编写某个图层的可选、可视及组合操作信息,根据某个图层与整个图层不同的组合配置对应不同的快捷键,形成一个程序脚本文件file1;步骤2:将程序脚本文件file1配置到Virtuoso软件环境;步骤3:打开版图,按快捷键进行相应的图层选择与操作。本发明使用Skill语言,自定义一些快捷键和组合快捷键,来快速选择版图设计图层,对所有的工艺库都适用,通用性强,简化了图层操作,提高工作效率。
申请公布号 CN106096095A 申请公布日期 2016.11.09
申请号 CN201610379650.0 申请日期 2016.06.01
申请人 中国兵器工业集团第二一四研究所苏州研发中心 发明人 吕江萍;陈超;刘霞
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人 耿英;董建林
主权项 一种快速选择版图图层的方法,其特征是,编写和配置基于Skill语言的程序,包括以下步骤:步骤1:选择半导体工艺库文件常用图层,并对其进行识别、选择,编写常用图层的可选、可视及组合操作信息,根据图层与整个图层不同的组合配置对应不同的快捷键,形成一个程序脚本文件file1;步骤2:将程序脚本文件file1配置到Virtuoso软件环境;步骤3:打开版图,按快捷键进行相应的图层选择与操作。
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