| 发明名称 | 用于检测基片上的图案的方法和装置 | ||
| 摘要 | 一种用于检测在行进的基片(2)(亦即在沉积在薄片或卷材材料上的基片)上的图案的装置(1)，所述基片是沿着一行进方向(20)行进的金属化箔片。所述装置在一壳体(3)内包括：从一第一光源(4)发出的一第一入射光束(l<SUB>1</SUB>)，从一第二光源(5)发出的一第二入射光束(l<SUB>2</SUB>)，一光学测量系统(10)，分别传送由基片(2)反射的反射光束(R1，R2)的一光敏传感器(13)，以及连接至一通讯口(16)的一电子装置(14)。光学测量系统(10)是焦阑的，并且第一入射光束(l<SUB>1</SUB>)横穿一焦阑的照明系统(15)，第二入射光束(l<SUB>2</SUB>)横穿一倾斜的照明系统(25)。 | ||
| 申请公布号 | CN100375886C | 申请公布日期 | 2008.03.19 |
| 申请号 | CN200510070150.0 | 申请日期 | 2005.04.30 |
| 申请人 | 鲍勃斯脱股份有限公司 | 发明人 | F·皮劳德;P·塞凡特 |
| 分类号 | G01B11/00(2006.01);B32B37/00(2006.01) | 主分类号 | G01B11/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 顾峻峰 |
| 主权项 | 1.一种检测装置(1)，所述检测装置用于检测在行进的基片上的图案，所述基片沉积在薄片或卷材材料上，基片沿着一行进方向(20)行进，所述装置在一壳体(3)内包括：从一第一光源(4)发出的一第一入射光束(11)，从一第二光源(5)发出的一第二入射光束(12)，一光学测量系统(10)，分别收集由基片(2)反射的反射光束(R1，R2)的一光敏传感器(13)，以及连接至一通讯口(16)的一电子装置(14)，其特征在于，光学测量系统(10)是焦阑的，并且第一入射光束(11)横穿一焦阑的照明系统(15)，第二入射光束(12)横穿一倾斜的照明系统(25)。 | ||
| 地址 | 瑞士洛桑 | ||