| 摘要 |
본 발명에 따른 기기 (1) 는 처리 액체 (F) 로 처리될 플랫 재료 (B) 를 가볍게 처리하기 위해 제안된다. 기기 (1) 는 다음 부품들: 처리 액체 (F) 가 욕 레벨 (M) 까지 축적될 수 있는 적어도 하나의 처리 챔버 (20), 적어도 하나의 처리 챔버 (20) 로 처리 액체 (F) 를 공급하기 위한 적어도 하나의 공급 기기 (7), 적어도 하나의 수송 기기 (30) 로서, 상기 수송 기기로 처리될 플랫 재료 (B) 가 적어도 하나의 처리 챔버 (20) 를 통하여 욕 레벨 (M) 아래 수송 평면 (E) 에서 수평 위치로 수송될 수 있는, 상기 적어도 하나의 수송 기기 (30), 처리 액체 (F) 를 위한 적어도 하나의 수용 영역 (4), 및 각각의 배출율로 적어도 하나의 처리 챔버 (20) 로부터 상기 적어도 하나의 수용 영역 (4) 으로 처리 액체를 운반하기 위해 상기 처리 액체 (F) 를 위한 적어도 하나의 배출 개구 (41) 를 각각 구비한 적어도 하나의 배출 기기 (40) 를 갖는다. 적어도 하나의 배출 기기 (40) 는 각각 적어도 하나의 조정 시스템 (43) 을 가지고, 상기 조정 시스템으로 적어도 하나의 배출 개구 (41) 를 통하여 처리 액체 (F) 의 배출율이 조절가능하다. |
