| 发明名称 | 组合物、粘接片的制造方法、粘接片、层叠体的制造方法和层叠体 | ||
| 摘要 | 一种组合物，其包含：多硫醇化合物、在末端具有碳‑碳双键的化合物、光自由基产生剂和热自由基产生剂，前述在末端具有碳‑碳双键的化合物(B)的末端中所含的前述碳‑碳双键的总摩尔数(Ene)相对于前述多硫醇化合物(A)中所含的巯基的总摩尔数(SH)之比(Ene/SH)为大于0.20且为0.70以下。 | ||
| 申请公布号 | CN106232681A | 申请公布日期 | 2016.12.14 |
| 申请号 | CN201580018359.4 | 申请日期 | 2015.04.01 |
| 申请人 | 株式会社普利司通 | 发明人 | 北野创 |
| 分类号 | C08G75/045(2016.01)I;B05D3/06(2006.01)I;B05D7/24(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;B32B27/30(2006.01)I;C09J4/02(2006.01)I;C09J5/06(2006.01)I;C09J7/02(2006.01)I;C09J11/06(2006.01)I;C09J201/02(2006.01)I | 主分类号 | C08G75/045(2016.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种组合物，其包含：多硫醇化合物、在末端具有碳‑碳双键的化合物、光自由基产生剂和热自由基产生剂，所述在末端具有碳‑碳双键的化合物的末端中所含的所述碳‑碳双键的总摩尔数(Ene)相对于所述多硫醇化合物中所含的巯基的总摩尔数(SH)之比(Ene/SH)为大于0.20且为0.70以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||