发明名称 紫外GaN基LED外延结构
摘要 本实用新型提供一种紫外GaN基LED外延结构,LED外延结构依次包括:衬底;低温缓冲层;高温u‑GaN层;高温n‑GaN层;低温AlGaN/AlInGaN紫外发光层;高温p‑AlGaN电子阻挡层;高温p‑GaN层,低温AlGaN/AlInGaN紫外发光层包括层叠设置的低温Al<sub>x</sub>In<sub>y</sub>Ga<sub>1‑x‑y</sub>N量子阱层和低温Al<sub>z</sub>Ga<sub>1‑</sub><sub>z</sub>N量子垒层。本实用新型通过设计紫外GaN基LED外延结构中的量子阱发光层结构,降低了材料中自发和压电极化效应的影响,能够提升紫外LED器件的内部量子效率。
申请公布号 CN205406553U 申请公布日期 2016.07.27
申请号 CN201620155185.8 申请日期 2016.03.01
申请人 聚灿光电科技股份有限公司 发明人 冯猛;陈立人;刘恒山
分类号 H01L33/04(2010.01)I 主分类号 H01L33/04(2010.01)I
代理机构 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人 杨林洁
主权项 一种紫外GaN基LED外延结构,其特征在于,所述LED外延结构依次包括:衬底;位于所述衬底上的低温缓冲层;位于所述低温缓冲层上的高温u‑GaN层;位于所述高温u‑GaN层上的高温n‑GaN层;位于所述高温n‑GaN层上的低温AlGaN/AlInGaN紫外发光层,所述低温AlGaN/AlInGaN紫外发光层包括层叠设置的低温Al<sub>x</sub>In<sub>y</sub>Ga<sub>1‑x‑y</sub>N量子阱层和低温Al<sub>z</sub>Ga<sub>1‑z</sub>N量子垒层,每个周期中,所述低温Al<sub>x</sub>In<sub>y</sub>Ga<sub>1‑x‑y</sub>N量子阱层中Al组分x为固定值,In组分y为固定值,低温Al<sub>z</sub>Ga<sub>1‑z</sub>N量子垒层中Al组分z为非固定值,Al组分z沿外延生长方向全部或部分逐渐增大,且低温Al<sub>z</sub>Ga<sub>1‑z</sub>N量子垒层中的Al组分不低于低温Al<sub>x</sub>In<sub>y</sub>Ga<sub>1‑x‑y</sub>N量子阱层中的Al组分x,所述低温AlGaN/AlInGaN紫外发光层的发光波长为365~400nm;位于所述低温AlGaN/AlInGaN紫外发光层上的高温p‑AlGaN电子阻挡层;位于所述高温p‑AlGaN电子阻挡层上的高温p‑GaN层。
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