| 发明名称 | 用于EUV投射光刻的照明光学装置以及照明系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于EUV投射光刻的照明光学装置，所述照明光学装置用于照亮照明场，下游侧的成像光学装置(6)的物场(3)布置在所述照明场中。在物场(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)。照明光学装置的镜面分面反射镜(14)具有多个并排布置的分面(13)，用于反射地叠加地导引朝向物场(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)。所述镜面分面反射镜(14)布置为，使得各个分面(13)在镜面分面反射镜(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在镜面分面反射镜(14)的相应各个分面(13)上的射击区域预设出用于物场(3)的场点的照明方向。照明光部分光束(9i)在各个分面(13)上的射击区域的边缘轮廓预设出物场(3)的场形状。每个分面(13)具有连续的静态反射面(15)。由此实现这样的照明光学装置，通过所述照明光学装置能够以相比现有技术减少的制造耗费实现镜面反射器。 | ||
| 申请公布号 | CN105706003A | 申请公布日期 | 2016.06.22 |
| 申请号 | CN201480060611.3 | 申请日期 | 2014.08.25 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | M.帕特拉 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/09(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 侯宇 |
| 主权项 | 一种用于EUV投射光刻的照明光学装置，所述照明光学装置用于通过EUV光源(2)的照明光(9)照亮照明场，下游侧的成像光学装置(6)的物场(3)布置在所述照明场中，在物场(3)中又能够布置能沿物体移动方向(y)移动的物体(5)，‑所述照明光学装置具有镜面分面反射镜(14)，所述镜面分面反射镜具有多个并排布置的镜面分面(13)，用于反射式叠加地导引朝向物场(3)的一束EUV照明光(9)中的部分光束(9i)，‑其中，所述镜面分面反射镜(14)是处于照明光(9)的光路中的用于在物场(3)之前导引照明光(9)的最后的部件，‑其中，所述镜面分面反射镜(14)布置为，使得‑‑各个镜面分面(13)在镜面分面反射镜(14)上的位置和照明光部分光束(9i)在镜面分面反射镜(14)的相应各个镜面分面(13)上的射击区域(16)预设出用于物场(3)的场点的照明方向，‑‑照明光部分光束(9i)在各个镜面分面(13)上的射击区域(16)的边缘轮廓预设出物场(3)的场形状，‑其中，每个镜面分面(13)具有连续的静态反射面(15)。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||