SPIEGELANORDNUNG MIT VERSTELLBAREN SPIEGELN FÜR PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGEN SOWIE ENTSPRECHENDE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit mindestens einer Spiegelanordnung (11) mit einer Mehrzahl von Spiegeln, wobei die Projektionsbelichtungsanlage so ausgebildet ist, dass sie bei unterschiedlicher Positionierung und/oder Ausrichtung mindestens eines Spiegels der Spiegelanordnung betreibbar ist, und wobei die Spiegelanordnung in einem bestimmten Bereich des Strahlengangs der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet ist, wobei zur Realisierung unterschiedlicher Positionierung und/oder Ausrichtung des mindestens einen Spiegels der Spiegelanordnung mindestens zwei Spiegelanordnungen für denselben Bereich des Strahlengangs vorgesehen sind, die austauschbar in der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet werden können und wobei bei den austauschbaren Spiegelanordnungen (11) der mindestens eine Spiegel in unterschiedlicher Positionierung und/oder Ausrichtung angeordnet ist oder angeordnet werden kann.