Facetteneinrichtung mit einem Formgedächtnislegierungs-Aktor, Verfahren zum Herstellen und Lithographieanlage

摘要

Es wird eine Facetteneinrichtung (200) für einen Spiegel (110) für eine Lithographieanlage (100) offenbart, aufweisend eine Facette (206) mit einer optischen Fläche (300) zum Reflektieren von elektromagnetischer Strahlung, ein Basiselement (302), und zumindest einen Formgedächtnislegierungs-Aktor (304), welcher eine Formgedächtnislegierung (306) aufweist, die dazu eingerichtet ist, ihre Ausdehnung (308) in zumindest einer Dimension zu verändern, um die Facette (206) relativ zu dem Basiselement (302) zu verkippen.