首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
DIELECTRIC ETCH CHAMBER WITH EXPANDED PROCESS WINDOW
摘要
申请公布号
KR100887014(B1)
申请公布日期
2009.03.04
申请号
KR20027008559
申请日期
2002.06.29
申请人
发明人
分类号
H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306
主分类号
H01L21/3065
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
用于对LTE中时分双工配置的改变进行适配的方法和设备
搜索内容提供方法和搜索引擎
一种并发业务处理方法及装置
一种新型仓库物料管理方法
一种延时控制电路及装置
背照式光感测元件封装体
一种手持电子设备、支撑组件及支撑组件的制作方法
一种电力系统快速抗差状态估计方法
一种基于混沌动力理论的单向哈希函数构造方法
一种采用形式化描述语言进行RapidIO协议解码的方法
一种便携式拍照架
用于确定反馈和调度时序的方法和装置
分布式存储系统的接入方法和设备
设置L3VPN网络侧路由的方法及装置
一种基于形态学多特征融合的害虫图像分类方法及系统
一种移动uKey、无卡取现系统及方法
语音通信处理方法和装置
一种折叠型便携式拍照架
一种多基板立体封装芯片方法
汉语叙词表构建系统