发明名称 SELF-IONIZED AND INDUCTIVELY-COUPLED PLASMA FOR SPUTTERING AND RESPUTTERING
摘要
申请公布号 EP1459353(A2) 申请公布日期 2004.09.22
申请号 EP20020784777 申请日期 2002.12.10
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 DING, PEIJUN;XU, ZHENG;MOSELY, RODERICK, C.;RENGARAJAN, SURAJ;MAITY, NIRMALYA;CARL, DANIEL, A.;CHIN, BARRY;SMITH, PAUL, F.;ANGELO, DARRYL;TOLIA, ANISH;FU, JIANMING;CHEN, FUSEN;GOPALRAJA, PRABURAM;TANG, XIANMIN;FORSTER, JOHN, C.
分类号 C23C14/04;C23C14/34;C23C14/35;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52;(IPC1-7):H01J37/34 主分类号 C23C14/04
代理机构 代理人
主权项
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