| 摘要 |
증착 챔버의 인 시튜 플라즈마 세정 방법 및 장치가 제공된다. 일 실시예에서, 진공을 파괴하지 않으면서 증착 챔버를 플라즈마 세정하는 방법이 제공된다. 이 방법은 상기 챔버 내에 배치되고 전기적으로 플로팅하는 증착 링에 의해 둘러싸이는 서셉터 상에 기판을 위치시키는 단계, 상기 챔버 내의 증착 링 및 기판 상에 금속 막을 증착하는 단계, 진공을 파괴하지 않으면서, 상기 증착 링 상에 증착된 금속 막을 접지시키는 단계, 및 진공을 파괴하지 않으면서 접지된 상기 증착 링 상의 금속 막을 재스퍼터링하지 않으면서, 상기 챔버 내에서 형성된 플라즈마를 이용하여 상기 챔버로부터 오염물들을 제거하는 단계를 포함한다. |
