发明名称 イオンの角発散を制御する装置及び方法
摘要 本発明は、イオン注入装置においてイオンビームを走査する静電式スキャナを提供する。この静電式スキャナには、イオンビームに面する第1の内面であって、イオンビームの伝搬方向に対し直角な第1の平面内で凹型の形状をしている当該第1の内面を有している第1の走査プレートと、第1の走査プレートに対向するとともに、イオンビームを受入れるギャップで第1の走査プレートから隔てられている第2の走査プレートであって、第2の走査プレートはイオンビームに面している第2の内面を有し、この第2の内面は第1の平面内で凸型の形状をしている当該第2の走査プレートとを設け、第1の走査プレート及び第2の走査プレートは、ギャップ内で静電界を発生し、イオンビームの伝搬方向に対し直角な水平方向に沿ってイオンビームを往復走査させるように構成する。
申请公布号 JP2016528675(A) 申请公布日期 2016.09.15
申请号 JP20160523746 申请日期 2014.05.27
申请人 ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド 发明人 フランク シンクレア;ジョセフ シー オルソン;エドワード ダブリュー ベル;ダニエレ フェルドマン
分类号 H01J37/317;H01L21/265 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
主权项
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