摘要 |
本発明は、イオン注入装置においてイオンビームを走査する静電式スキャナを提供する。この静電式スキャナには、イオンビームに面する第1の内面であって、イオンビームの伝搬方向に対し直角な第1の平面内で凹型の形状をしている当該第1の内面を有している第1の走査プレートと、第1の走査プレートに対向するとともに、イオンビームを受入れるギャップで第1の走査プレートから隔てられている第2の走査プレートであって、第2の走査プレートはイオンビームに面している第2の内面を有し、この第2の内面は第1の平面内で凸型の形状をしている当該第2の走査プレートとを設け、第1の走査プレート及び第2の走査プレートは、ギャップ内で静電界を発生し、イオンビームの伝搬方向に対し直角な水平方向に沿ってイオンビームを往復走査させるように構成する。 |