Cleaner composition

摘要

본 발명은 마이크로전자 기판용 세정제 조성물에 관한 것으로서, 과산화수소, 금속 산화환원 억제제, 암모늄이온을 포함하는 무기 화합물, 산화 보조 안정화제, 금속 부식방지제 및 물을 포함하며, 유기물을 최소화함으로써 안정화된 세정제 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 세정제 조성물에 의하면, 과산화수소의 함량 변화를 방지함으로써 세정제 조성물의 pH 변화를 억제할 수 있으므로, 경시변화에 따른 잔류물 제거속도를 유지할 수 있다.