发明名称 SUBSTRATE HOLDING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 기판 처리 방법은, 기판을 수평으로 유지시키기 위한 기판 유지 방법으로서, 기판 반송 기구에 기판을 재치하는 재치 공정과, 스핀 베이스의 상면 주연부의 제 1 영역에 있어서, 둘레 방향을 따라서 배치된 복수의 위치 결정 핀을 닫힘 상태로 하는 제 1 준비 공정과, 상기 스핀 베이스의 상면 주연부에 있어서의, 상기 제 1 영역과 둘레 방향으로 겹치지 않는 제 2 영역에, 둘레 방향을 따라서 배치된 복수의 파지용 핀을 열림 상태로 하는 제 2 준비 공정과, 상기 재치 공정, 상기 제 1 준비 공정 및 상기 제 2 준비 공정 후에, 상기 기판 반송 기구를 이동시켜 상기 복수의 위치 결정 핀에 상기 기판의 주연부를 맞닿게 함으로써, 상기 기판을 위치 결정하는 위치 결정 공정과, 상기 위치 결정 공정 후에, 상기 복수의 파지용 핀을 닫힘 상태로 하고, 이로써 상기 기판을 상기 복수의 위치 결정 핀과 상기 복수의 파지용 핀으로 유지하는 기판 파지 공정과, 상기 기판 파지 공정 후에, 상기 기판 반송 기구를 상기 스핀 베이스의 상방으로부터 퇴피시키는 반송 기구 퇴피 공정을 포함한다.
申请公布号 KR20160115831(A) 申请公布日期 2016.10.06
申请号 KR20160035910 申请日期 2016.03.25
申请人 SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 发明人 KOBAYASHI KAZUTAKA;KATO HIROSHI
分类号 H01L21/687;H01L21/677;H01L21/68 主分类号 H01L21/687
代理机构 代理人
主权项
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