| 摘要 |
Die Gruppe von Erfindungen bezieht sich auf Herstellungslinien, die insbesondere für Vakuumanlagen eingesetzt werden, und auf ein Verfahren zum Aufbringen von Dünnschichten mit vorgegebenen optischen, elektrischen und anderen Eigenschaften. Die genannte Herstellungslinie zum Aufbringen von Dünnschichten enthält eine Eintritts- Schleusenkammer, eine Prozesskammer mit folgenden Baugruppen, die darin der Reihe nach angeordnet sind: wenigstens eine Prozesseinrichtung, welche ein Behandlungsfeld bildet, eine Austrittspufferkammer, ein Transportsystem und ein Substrathalter, der die Kammern entlang verfahrbar ist. Der Substrathalter ist in Form von einem Wagen mit einem darauf angebauten Zylinder ausgebildet, der koaxial mit der Bewegungsrichtung des Wagens drehbar angeordnet ist. Die Drehgeschwindigkeit der Zylinderdrehung und die lineare Geschwindigkeit der Wagenbewegung sind während der Behandlung konstant und werden so gewählt, dass jeder Punkt der Zylinderoberfläche beim Durchgang durch Behandlungsfelder wenigstens zwei Vollumdrehungen ausführt. Dabei wird die Möglichkeit sichergestellt, sowohl große und flexible als auch Kleinsubstrate mit einem großen Gleichmäßigkeitsgrad der Beschichtung mit einem hohen Nutzeffekt der verwendeten Auftragsmaterialien zu bearbeiten. |
