发明名称 |
纳米压印软模板制备装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种纳米压印软模板制备装置,其包括:基座,其上开设有作为内圈的第一圆周槽,以及套于第一圆周槽外部的作为外圈的第二圆周槽;模板,其放置于基座上并位于第一圆周槽内;密封圈,其嵌设于第圆周槽内且具有延伸至模板的表面的第一凸沿;压圈,其嵌设于第二圆周槽内且具有延伸至密封圈的表面的第二凸沿,压圈由驱动单元驱动沿着垂直方向进行升降。本实用新型与现有技术相比,可以有效地防止流体态软模板泄露出来,从而可以更加便于脱模。 |
申请公布号 |
CN205353570U |
申请公布日期 |
2016.06.29 |
申请号 |
CN201620054145.4 |
申请日期 |
2016.01.20 |
申请人 |
苏州光越微纳科技有限公司 |
发明人 |
宋崇顺;史晓华 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
苏州华博知识产权代理有限公司 32232 |
代理人 |
靳苗静 |
主权项 |
纳米压印软模板制备装置,其特征在于,包括:基座,其上开设有作为内圈的第一圆周槽,以及套于所述第一圆周槽外部的作为外圈的第二圆周槽;模板,其放置于所述基座上并位于所述第一圆周槽内;密封圈,其嵌设于所述第一圆周槽内且具有延伸至所述模板的表面的第一凸沿;压圈,其嵌设于所述第二圆周槽内且具有延伸至所述密封圈的表面的第二凸沿,所述压圈由驱动单元驱动沿着垂直方向进行升降。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城13栋303 |