| 主权项 |
1﹒供各种处理用而在处理中发出气体之一种电解池,其特点为至少有一个罩状盖子(5),此盖子被配置在一个或多个电极(1,9,10)上方,并且在此电解质表面下方,具有供此气体与电解质所成浮液用之一出口孔洞(6)和一处电筒质再循环空间(7),此空间被配置在此盖子(5)之突起部份之外面,且无产生气体之电极,而上此空间相隔比出口孔洞(6)有一大距离,因而防止气体之倒流者。2﹒根据上述请求专利部第1项之一种电解池,其特点为一罩状盖子(5),比盖子具有顶部,此顶部乃系朝此出口孔洞(6)升起者。 3﹒根据上述请求专利部份第1或2项之一种电解池,其特点为有多个实际水平之阳极(1)和一罩状盖子(5),前者设置有流道(2),后者乃系将阳极(1)之至少一处顶缘部份关闭,并系以将此阳极(1)之至少三处顶缘部份封闭为实施中之较佳者。4﹒根据上述请求专利部份第2或3项之一种电解池,其特点为有多个阳极(1),此等阳极乃系与此罩状盖子(5)构成一结构整体者。5﹒根据上述请求专利部份第2,3或4项之一种电解池,其特点为有多个阳极(1),此等阳极乃系在其底下边设置有大约为一定深度之槽状凹缝者。6﹒根据上述请求专利部份第2,3,4或5项之一种电解池,其特点为此罩状盖子(5)之顶部乃系与此槽状凹缝大约成直角升起者。 |
