| 主权项 |
1﹒一种用于读写一记录载体上之以光学可阅读而安排成轨迹之资讯结构之装置,该装置含有一辐射光源,用以产生一光束,一物镜系统,用以使该光束聚焦为一辐射光点于该资讯结构之平面中,一可调整之元件,用以依横越轨踪之方向移动该光点,及一追踪伺服系统,用以产生一该可调整元件之控制信号,其特点为一位置侦测系统21,22,23,24,25,26,用于测定测定可调整元件10,30,36之位置,该侦测系统之输出接至追踪伺服系统16,17,18,27之一输入端,用于产生控制信号Sc,该信号就所述位置已作修正。2﹒根据上述请求专利部份第1项所述之装置,其中,该可调整元件系由一可转动而部份有反射性之元件构成,其特点为,该位置侦测系统含有二对辐射线敏感之侦测器24,25,安置于光束部份7'之经路中,该光束部份7'系由辐射光源35发射,并由可转动元件36传送,该二侦测器之输出接至一减法器电路26。3﹒根据上述请求专利部份第1项所述之装置,其中,该可调整元件含有一可转动棱镜,其中置一有部份反射性之表面,其特点为,该棱镜30面对辐射光源35之表面特与该辐射光源所发射光束之轴线一锐角,以及该位置侦测系统含有二对辐射敏感之侦测器24,乃,安置于该棱镜表面组所反射之光束部份之经路中,及一减法器电路26,其输入端接至二侦测器之输出端。4﹒根据上述请求专利部份第1项所述之装置,其中,该可调整元件由一可转动而至少有部份反射性之元件构成,其特点为该可转动元件10,30离辐射光源较远之平面的,34为反射性,及该位置侦测系统含有一辅助辐射光源22,及二对辐射敏感之侦测器24,25,安置于辅助辐射光源所发射并由反射表面的,34所反射之光束42之径路中,该二侦测器之输出接至一减法器电路26之输入端,及辅助辐射光源及二侦测器之界线系位于平行于该可转动元件之转动轴线11﹒之一平面中。 |
