发明名称 | 清洁短路后的溅镀室高压阴极的方法和装置 | ||
摘要 | 本发明涉及清除溅镀室内溅镀阴极上的短路积物,在正常时由DC电源提供足能产生和维持溅镀等离子体的电能,清除短路积物时,首先中断接到被短路的阴极上的该DC电源(60),然后用辅助电源(72)供电,该电能足能蒸发该短路积物,但不足以激励溅镀等离子体。造成短路的积物被清除后,辅助电源被切断,恢复接通DC电源。 | ||
申请公布号 | CN86105616A | 申请公布日期 | 1987.04.22 |
申请号 | CN86105616 | 申请日期 | 1986.07.26 |
申请人 | 西屋电气公司 | 发明人 | 克伦斯·加里·费弗尔 |
分类号 | C23C14/34 | 主分类号 | C23C14/34 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人 | 范本国 |
主权项 | 1、一种清除导电材料构成的短路积物的方法,由布置在一个溅镀室中并受直流电源激励的溅镀阴极组件进行,该直流电源足能使溅镀阴极组件建立和维持溅镀等离子体,其特征为下列步骤:(a)遮断从直流电流供给该阴极组件的直流功率,(b)对阴极组件提供足能蒸发所述的积物和足能建立并维持溅镀等离子体的电源。 | ||
地址 | 美国宾夕法尼亚州15222 |