PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK

摘要

투광성 기판 상에, 전사 패턴을 형성하기 위한 박막을 성막하여 박막을 갖는 기판을 제작하고, 다음으로 그 박막을 갖는 기판을 가압 처리하는 포토마스크 블랭크의 제조 방법이다. 상기 가압 처리는, 예를 들면 냉간 등방압 가압법에 의해, 1000∼10000 기압의 범위 내에서 행한다.