| 主权项 |
1.一种制备烧后具有以下X射线绕射线之沸石之方法(*)所提供之X射线图式系基于相对强度规模,其中将X射线图式中之最强线指定为具有数値100:W(弱)是小于20;M(中)是在20与40间;S(强)是在40与60间;VS(极强)是大于60,该方法包括:(a)制备水溶液,以莫耳比率计,含有:YO2/W2O3 ≧15OH-/YO2 0.10-0.40Q/YO2 0.05-0.50M2/n/YO2 0.05-0.40H2O/YO2 10-70其中Y是矽,锗或其混合物;W是铝,铁,镓,铟,钛或其混合物;Q是至少一种含3至8个碳原子之小、中性胺,该胺含有(a)仅碳、氮和氢原子,(b)一个一级,二级或三级但非四级之胺基及(c)一个三级氮原子或直接结合至至少一个二级碳原子上之一个氮原子;M是一种硷金属,硷土金属或其混合物;而n是M的原子价;(b)维持该水溶液在100℃至250℃及超压力下1至7天以形成沸石晶体;及(c)回收该沸石之晶体,其中该方法系在无四级胺化合物存在时予以实施。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中水溶液包含下列成份,以莫耳比率计:YO2/W2O3 25-40OH-/YO2 0.15-0.30Q/YO2 0.10-0.30M2/n/YO2 0.075-0.30H2O/YO2 25-503.根据申请专利范围第1项之方法,其中Y是矽而W是铝。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中YO2/W2O3莫耳比率是自20至80。5.根据申请专利范围第3项之方法,其中YO2/W2O3莫耳比率是20至40之间。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中在烧后及呈氢形式时,该沸石具有13的受力变形指数。7.根据申请专利范围第3项之方法,其中YO2/W2O3莫耳比率是自40至80。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中小、中性胺具有下式:(R1,R2,R3)N其中该胺含有仅碳、氢和氮原子;R1,R2和R3是H或C1-C4烷基,其限制条件为:R1,R2和R3的至少一者是烷基;该胺含有总数3至8个碳原子;又该胺含有一个三级氮原子,至少一个三级碳原子或直接结合至至少一个二级碳原子上之一个氮原子。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中小、中性胺系由下列各化合物中选出:异丁胺,二异丁胺,二异丙胺和三甲胺。10.根据申请专利范围第3项之方法,其中该胺是异丁胺。11.根据申请专利范围第3项之方法,其中该胺是二异丁胺。12.根据申请专利范围第1项之方法,其另外包括经由与由下列各金属中选出之一种阳离子或阳离子之混合物进行离子交换而至少部份取份取代所回收之沸石中的硷金属阳离子,硷土金属阳离子或两者:氢和氢母质,各种稀土金属和来自元素周期表的第IIA,IIIA,IVA,IB,IIB,IIIB,IVB,VIB和VIII等族之金属。13.根据申请专利范围第12项之方法,其中取代之阳离子是氢或氢母质。14.根据申请专利范围第1项之方法,其中该方法系在除去小、中性胺以外,无任何含氮之有机模板剂存在时予以实施。15.根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤(b)中之结晶作用实质上在72小时内完成。16.一种如此合成并呈无水状态之沸石组合物,其具有以下X射线绕射线:(*)所提供之X射线图式系基于相对强度规模,其中将X射线图式中之最强线指定为具有数値100:W(弱)是小于20;M(中)是在20与40间;S(强)是在40与60间;VS(极强)是大于60,其通式以莫耳比率计如下:YO2/W2O3 ≧15Q/YO2 0.02-0.10M2/n/YO2 0.02-0.10其中Y是矽,锗或其混合物;W是铝,镓,铟,铁,钛或其混合物;Q是含3至8个碳原子之至少一种小、中性胺,该胺含有(a)仅碳、氮和氢原子,(b)一个一级,二级或三级但非四级之胺基及(c)一个三级氮原子或直接结合至至少一个二级碳原子上之一个氮原子;M是一种硷金属阳离子,硷土金属阳离子或其混合物;而n是M的原子价,其中该组合物不含四级胺化合物。17.根据申请专利范围第16项之组合物,其中Y是矽而W是铝。18.根据申请专利范围第17项之组合物,其中YO2/W2O3莫耳比率是自20至80。19.根据申请专利范围第17项之组合物,其中YO2/W2O3莫耳比率是自20至40之间。20.根据申请专利范围第19项之组合物,其中沸石在烧后并呈氢形式时具有13之受力变形指数。21.根据申请专利范围第17项之组合物,其中YO2/W2O3莫耳比率是自40至80。22.根据申请专利范围第1项之方法,其中小、中性胺具有下式:(R1,R2,R3)N其中该胺含有仅碳,氢和氮原子;R1,R2和R3是H或C1-C4烷基,其限制条件为:R1,R2和R3的至少一者是烷基;该胺含有总数3至8个碳原子;又该胺含有一个三级氮原子,至少一个三级碳原子或直接结合至至少一个二级碳原子上之一个氮原子。23.根据申请专利范围第16项之组合物,其中小、中性胺系由下列各化合物中选出:异丁胺,二异丁胺,二异丙胺和三甲胺。24.根据申请专利范围第17项之组合物,其中该胺是异丁胺。25.根据申请专利范围第17项之组合物其中该胺是二异丁胺。26.根据申请专利范围第16项之组合物,其中该组合物除去小、中性胺以外不含任何含氮之有机模板剂。 |
