| 主权项 |
1.一种逆反射物件,包含:一第一表面,包括复数光线改向结构;一第二表面,与该第一表面相面对,包括复数逆反射区域将光线朝该第一表面逆反射;及复数分隔区域,位在该第二表面上,每一分隔区域位在该逆反射区域之间;其中一主要部分以一给定角度入射于该逆反射物件第一表面上复数光线改向结构之光线叠加于该逆反射物件之第二表面上。2.如申请专利范围第1项之迷反射物件,其中该逆反射区域和分隔区域以交替间隔之行排列于该第二表面上,该行大体上与一第一轴对准且有一大致横越该第一轴之宽度。3.如申请专利范围第1项之逆反射物件,其中位在该第二表面上之逆反射区域和分隔区域以一重复模式提供。4.如申请专利范围第1项之逆反射物件,其中每一逆反射区域之宽度大致等于每一分隔区域之宽度。5.如申请专利范围第1项之逆反射物件,其中每一逆反射区域包含复数逆反射结构,且其中一主要部分自该第一表面入射于该分隔区域之光线穿透该分隔区域。6.如申请专利范围第1项之逆反射物件,其中一主要部分入射于该分隔区域之光线受吸收。7.如申请专利范围第1至6项中任一项之逆反射物件,其中每一逆反射区域包含复数个第一逆反射结构,且其中每一分隔区域包含复数个第二逆反射元件,其中该第一和第二逆反射元件至少有一光学特质不同。8.如申请专利范围第1至6项中任一项之逆反射物件,其中该复数光线改向结构排列成行大致与该第一轴对准。9.如申请专利范围第1至6项中任一项之逆反射物件,其中每一光线改向结构包含一大致二维刻面。10.如申请专利范围第1至6项中任一项之逆反射物件,其中该复数光线改向结构包含复数刻面对,每一刻面对包含两个位在刻面平面之刻面,每一刻面对之刻面平面沿一交会线交会,其中刻面对之交会线大致与该第一轴对准,且其中该第一和第二平面大体上为二维。图式简单说明:第一图为一依据本发明之逆反射物件之透视图。第一图A为一绘出一立方体边角元件对一代表性光线之平移效应之简图。第二图为一依据本发明之另一种逆反射物件之透视图。第三图为一沿第二图中线3-3剖得之逆反射物件剖面图。第四图为一依据本发明之另一逆反射物件之剖面图。第五图a至第五图c为依据本发明之另一逆反射物件之剖面图。第五图aa至第五图cc简要描绘第五图a至第五图c之逆反射物件在不同状况下之外观表现。第六图为一依据本发明之另一逆反射物件之透视图。第七图为一第六图逆反射物件之侧视图。第八图为第六图和第七图之逆反射物件沿第六图中轴线412剖得之视图。第九图为一依据本发明之另一逆反射物件之透视图。第十图为一依据本发明之另一逆反射物件之透视图。第十一图为一依据本发明之另一逆反射物件之剖面图。第十二图为一依据本发明之逆反射物件之光学性能之图示。第十二图A为光线改向穿过一依据本发明逆反射物件第一表面之简图。第十三图为一依据本发明之另一逆反射物件之剖面图。第十四图为一依据本发明之另一逆反射物件之剖面图。第十五图为一依据本发明之另一逆反射物件之剖面图。第十六图为第十五图逆反射物件在制作期间之剖面图。第十七图为第十五图逆反射物件之第一表面之平面图。第十八图绘出一种包括依据本发明逆反射物件之衣物。 |
