| 摘要 |
기판 처리 장치에서는, 토출 헤드가, 기판 유지부에 유지된 기판의 상방으로부터, 컵부의 외측에 배치되는 대기 포드의 상방의 검사 위치로 이동한다. 검사 위치에서는, 토출 헤드로부터 대기 포드를 향해서 토출되는 처리액에, 광출사부로부터 면형상 광이 조사된다. 그리고, 촬상부(52)에 의해, 처리액 상에 나타나는 휘점을 포함하는 검사 화상이 취득되고, 판정부에 의해, 상기 검사 화상에 의거하여 토출 헤드(31)의 토출 동작의 양부가 판정된다. 이에 의해, 기판 상에서 토출 헤드(31)로부터 처리액을 토출하여 토출 동작의 검사를 행하는 경우에 비해, 기판으로부터의 반사광, 및, 기판에 충돌한 처리액의 물보라나 미스트 등에 의한 영향을 배제하여, 토출 헤드(31)의 토출 동작의 양부를 정밀하게 판정할 수 있다. |
