溅镀用的靶及使用该靶的溅镀方法

摘要

若将以往技术的靶装着于溅镀装置，在靶的周围设置接地屏蔽(ground shield)，则在使电浆发生时，由于电流会从靶流往接地屏蔽，因此电浆不会被形成于靶的外周缘部的表面，靶的外周缘部会成为不被溅镀的非侵蚀区域而残留。其解决手段乃本发明之溅镀用的靶T系具有特定的外形者，其特征为：在溅镀面与周壁面所交会的部份，对其全周赋予斜面T2。