| 主权项 |
1.一种用以在一受测者进入用来产生一投射影像之一光束时禁止投射在一投射萤幕上之该影像之一部分之投射之方法,包括下列步骤:a)以一预定侦测技术辨识该投射影像之一部分,其为被进入该光束之该受测者遮住处;b)抑制在该部分之像素之信号位准,藉以降低投射在该受测者之该光束之信号位准。2.一种用以在一受测者进入用来产生一投射影像之一光束时禁止投射在一投射萤幕上之该影像之一部分之投射之方法,包括下列步骤:a)以来自一红外线光源之红外光均匀地照射该投射萤幕,b)投射一可见光影像在该投射萤幕,c)使用一红外线摄影机撷取该被红外线照射之投射萤幕产生之像素信号位准,d)储存该些撷取之信号位准,当作红外线参考框架,e)比较在该参考框架之该些信号位准与投射及撷取之每一影像框架之红外线感测信号位准,f)确认在该受测者区域之一像素,当在该红外线感测摄影机影像之一像素之红外线信号位准不符合储存在该红外线参考框架中之一对应位址之红外线信号位准时,g)抑制在已确认为一受测者位址之位址之该投射影像中之每一像素之该些信号位准,因而避免包含该投射影像之该光束投射在该受测者上。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该投射萤幕系一白色墙壁、一雾面(matte)白色投射萤幕、一珍珠面(beaded)投射萤幕、一金属镀膜凹面投射萤幕之中的一种。4.如申请专利范围第2项所述之方法,其中在该侦测技术中使用至少两个红外线频道,以及该受测者被侦测到,假如在该些新的影像框架信号位准与该些储存的参考框架信号位准之间之一给定像素位置发生不相符时,对于该至少两个红外线频道之任意一个。5.如申请专利范围第2项所述之方法,其中于预定间隔更新该些储存的参考框架信号位准,藉以使在该储存的参考框架中之该些红外线信号与来自没有该受测者之该萤幕之区域之该摄影机之该些信号位准维持相符,藉以消除线电压变化的影响。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该抑制信号变化为该受测者与该参考框架之间之红外线变异之一线性及非线性函数之一。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中信号位准已被抑制之该些像素系由该抑制所建立之信号位准所提供,藉以提供该受测者之彩色及白色光线照射之一。8.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该彩色及白色光线照射之一被禁止照射该受测者之脸部,藉由判断该受测者之部头位置。9.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该投射萤幕系一白色墙壁、一雾面(matte)白色投射萤幕、一珍珠面(beaded)投射萤幕、一金属镀膜凹面投射萤幕之中的一种。10.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该抑制信号变化为该受测者与该参考框架之间之红外线变异之一线性及非线性函数之一。11.如申请专利范围第2项所述之方法,其中信号位准已被抑制之该些像素系由该抑制所建立之信号位准所提供,藉以提供该受测者之彩色及白色光线照射之一。12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中该彩色及白色光线照射之一被禁止照射该受测者之脸部,藉由判断该受测者之部头位置。13.一种用以在一受测者进入用来产生一投射影像之一光束时禁止投射在一投射萤幕上之该影像之一部分之投射之装置,包括:a)用以以一预定侦测技术辨识该投射影像之一部分之装置,该部分为被进入该光束之该受测者遮住处;b)用以抑制在该部分之像素之信号位准之装置,藉以降低投射在该受测者之该光束之信号位准。14.一种用以在一受测者进入用来产生一投射影像之一光束时禁止投射在一投射萤幕上之该影像之一部分之投射之装置,包括:a)用以以来自一红外线光源之红外光均匀地照射该投射萤幕之装置,b)用以投射一可见光影像在该投射萤幕之装置,c)用以使用一红外线摄影机撷取该被红外线照射之投射萤幕产生之像素信号位准之装置,d)用以储存该些撷取之信号位准当作红外线参考框架之装置,e)用以比较在该参考框架之该些信号位准与投射及撷取之每一影像框架之红外线感测信号位准之装置,f)用以确认在该受测者区域之一像素之装置,当在该红外线感测摄影机影像之一像素之红外线信号位准不符合储存在该红外线参考框架中之一对应位址之红外线信号位准时,g)用以抑制在已确认为一受测者位址之位址之该投射影像中之每一像素之该些信号位准之装置,因而避免包含该投射影像之该光束投射在该受测者上。15.如申请专利范围第13项所述之装置,其中该投射萤幕系一白色墙壁、一雾面(matte)白色投射萤幕、一珍珠面(beaded)投射萤幕、一金属镀膜凹面投射萤幕之中的一种。16.如申请专利范围第14项所述之装置,其中在该侦测技术中使用至少两个红外线频道,以及该受测者被侦测到,假如在该些新的影像框架信号位准与该些储存的参考框架信号位准之间之一给定像素位置发生不相符时,对于该至少两个红外线频道之任意一个。17.如申请专利范围第14项所述之装置,其中于预定间隔更新该些储存的参考框架信号位准,藉以使在该储存的参考框架中之该些红外线信号与来自没有该受测者之该萤幕之区域之该摄影机之该些信号位准维持相符,藉以消除线电压变化的影响。18.如申请专利范围第13项所述之装置,其中该抑制信号变化为该受测者与该参考框架之间之红外线变异之一线性及非线性函数之一。19.如申请专利范围第13项所述之装置,其中信号位准已被抑制之该些像素系由该抑制所建立之信号位准所提供,藉以提供该受测者之彩色及白色光线照射之一。20.如申请专利范围第19项所述之装置,其中该彩色及白色光线照射之一被禁止照射该受测者之脸部,藉由判断该受测者之部头位置。21.如申请专利范围第14项所述之装置,其中该投射萤幕系一白色墙壁、一雾面(matte)白色投射萤幕、一珍珠面(beaded)投射萤幕、一金属镀膜凹面投射萤幕之中的一种。22.如申请专利范围第14项所述之装置,其中该抑制信号变化为该受测者与该参考框架之间之红外线变异之一线性及非线性函数之一。23.如申请专利范围第14项所述之装置,其中信号位准已被抑制之该些像素系由该抑制所建立之信号位准所提供,藉以提供该受测者之彩色及白色光线照射之一。24.如申请专利范围第23项所述之装置,其中该彩色及白色光线照射之一被禁止照射该受测者之脸部,藉由判断该受测者之部头位置。图式简单说明:第1图绘示包括本发明之构件之方块图。第2图是绘示来自萤幕的红外线变异与视信号的衰减之间的关系的曲线。第3图是绘示作业系统的构件的逻辑图式。 |
