发明名称 陶瓷之表面韧化方法及陶瓷制品
摘要 为提供一种新陶瓷制品之表面韧化方法、及形成有新差排构造之表面组织的表面韧化陶瓷制品。该陶瓷制品之表面韧化方法,其特征在于:对陶瓷制品采用微粒子所构成的喷射材料进行塑性加工,以在该陶瓷制品表面上形成均匀分布之直线状差排组织;该微粒子,系维氏硬度(HV)500~该陶瓷制品硬度+50(HV)、平均粒子尺寸0.1μm~200μm、且表面呈凸曲面者;以及一种陶瓷制品,其在表面上形成具有均匀分布的直线状差排组织,该组织之差排密度为1×104~9×1013cm-2。
申请公布号 TWI256381 申请公布日期 2006.06.11
申请号 TW092128375 申请日期 2003.10.14
申请人 独立行政法人科学技术振兴机构;国立大学法人名古屋大学;新东工业股份有限公司 发明人 公恭;文元振;内村胜次;伊藤俊朗
分类号 C04B41/80 主分类号 C04B41/80
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种陶瓷制品之表面韧化方法,其特征在于:对陶 瓷制品采用微粒子所构成的喷射材料进行塑性加 工,以在该陶瓷制品表面上形成均匀分布之直线状 差排组织; 该微粒子,系维氏硬度(HV)500~该陶瓷制品硬度加上 50(HV)、平均粒子尺寸0.1m~250m、且表面呈凸曲 面者。 2.如申请专利范围第1项之陶瓷制品之表面韧化方 法,其中,该塑性加工系在喷射压0.1~0.5MPa、喷射速 度20m/sec~250m/sec、喷射量50g/分~800g/分、喷射时间0. 1秒/cm2~60秒/cm2的条件下进行。 3.如申请专利范围第1或2项之陶瓷制品之表面韧化 方法,其中,在陶瓷制品表面上形成均匀分布的直 线状差排组织,其差排密度为1104~91013cm-2的范围 。 4.一种陶瓷制品,其特征在于:于陶瓷制品表面上具 有均匀分布的直线状差排组织,该组织之差排密度 为1104~91013cm-2。 图式简单说明: 第1图系进行实现本发明常温塑性加工之喷射处理 用装置之概念图。 第2(A)、(B)图系依本发明之表面韧化方法所获得形 成均匀分布之直线状差排的组织之穿透式电子显 微镜照片,第2(B)图系第2(A)图之标记部分的放大图 。 第3图系利用习知技术之塑性加工(喷砂处理)与热 处理而所形成差排单元(网状)组织的穿透式电子 显微镜照片。
地址 日本