发明名称 プラズマ処理システムのためのアンテナアレイ構成
摘要 本発明は概して、第1の専用高周波ジェネレータに結合された第1の閉ループアンテナアレイを備える第1の電磁波アプリケータと、第1の閉ループアンテナアレイに隣接して配置され、第2の専用高周波ジェネレータに結合された第2の閉ループアンテナアレイを備える第2の電磁波アプリケータとを備え、第1の閉ループアンテナアレイと第2の閉ループアンテナアレイはそれぞれ、一対の直線プラズマ管を備える、堆積システムに関する。【選択図】図2
申请公布号 JP2016530699(A) 申请公布日期 2016.09.29
申请号 JP20160516652 申请日期 2014.04.15
申请人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED 发明人 ホワイト, ジョン エム.;クデラ, ジョゼフ
分类号 H01L21/205;C23C16/509;H01L21/31;H05H1/46 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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