| 摘要 |
Wynalazek dotyczy nowych pochodnych 1-aminonaftalen0-2-karbonitrylu o wzorze ogólnym (1), w którym R1 oznacza podstawnik o wzorze ogólnym (2) albo podstawnik o wzorze ogólnym (3), w których to wzorach (2) i (3) podstawnik R3 wybrany jest z grupy obejmującej atom wodoru, atom fluoru, atom chloru, atom bromu, grupę metylową, grupę trifluorometylową, grupę nitrową, grupę metoksylową, grupę t-butoksylową, grupę nitrylową, grupę tiometoksylową, grupę metylosulfonylową, grupę trifluorometoksylową; R2 oznacza: ugrupowanie alkilowe takie jak -CH3, -C2H5, -C3H7, lub ugrupowanie fenylowe -C6H5. Wynalazek dotyczy także sposobów wytwarzania nowych pochodnych 1-aminonaftaleno-2-karbonitrylu, które mogą znaleźć zastosowanie jako fotosensybilizatory do procesów fotopolimeryzacji kationowej, rodnikowej i hybrydowej. Przedmiotem wynalazku są także nowe fotosensybilizatory do procesów fotoinicjowanej polimeryzacji kationowej, rodnikowej i hybrydowej oraz nowe systemy fotoinicjujące zawierające: a) co najmniej jedną sól oniową wybraną z grupy obejmującej: sole jodoniowe takie jak heksafluorofosforan difenylojodoniowy, heksafluoroantymonian difenylojodoniowy, heksafluorofosforan 4-metylo-4'-izopropylodifenylojodoniowy, heksafluorofosforan 4,4'-dimetylodifenylojodoniowy, tetrakis pentafluorofenyloboran 4-metylo-4'-izopropylodifenylojodoniowy, sole sulfoniowe takie jak heksafluorofosforan triarylosulfoniowy, heksafluoroantymonian triarylosulfoniowy, b) co najmniej jeden fotosensybilizator wybrany z grupy nowych pochodnych 1-aminonaftaleno-2-karbonitrylu o wzorze ogólnym (1). |
