| 主权项 |
1﹒磨碎粉状物料用之流体能量磨,包括一容器,有封闭底部,一端提供磨区,另一端为出口机构,和一般圆筒形核心区,有一轴线设置在该容器内介于该磨区与该出口机构之中央,还有包围该一般圆筒形核心区之环形沿周区,沿周缘隔开之复数喷射器喷嘴,可将流体载剂媒质以至该中央区轴线之半径间的方向,和垂直于该半径的方向,射入该磨区,该喷嘴全部设置于该磨区内,将流体载剂媒质该磨区射入该容器,该喷嘴协合该封闭底部及该出口机构,以便在该中央区内产生轴向流动之涡流,该容器与该磨区隔开之他端有横向壁机构,以阻扰轴向流动之涡流,并将其内媒质之至少第一部份向外折流,进入沿周区,流体媒质被折流入该沿周区,做为副流反向流动,并被导入出自该喷嘴之该主流内,因而遂行流体载剂媒质在该容器内之循环,并有进料机构,将粉状物料导入流体载剂媒质之循环流量内,故物料即被导入该主流,供其流体能量磨粉,在该涡流远端之该出口机构,可操作以取出该流体媒质之第二部份,及连带一部份粉状物料,系在该磨区内减小购量至预定限度以下者。2﹒如请求专利部份第1项之装置,包含机构,以调节供应至该喷嘴之流体载剂媒质,由此控制涡流内媒质流动之强度,因而控制经该出口机构连同流体媒质之第二部份排放的粉状物料之分类者。3﹒如请求专利部份第2项之装置,其中,该核心区内之涡流强度,足以提供该涡其沿周流动通过任何喷嘴与出口机构间之至少90者。4﹒如请求专利部份第1项之装置,其中,该喷嘴有分歧之喷射角度,提供高速出口流动,随与该出口流动之增加距离而递其流速,该复数喷嘴相隔距离,足以在相邻喷嘴之高速出口流动中间位置,提供不同之流速者。5﹒如请求专利部份第4项之装置,其中,该容器包括空心圆筒形,该磨区提供自各喷嘴出口流动用之无阻流程,自喷嘴延伸至该相反对于该喷嘴之壁部者。6﹒如请求专利部份第5项之装置,其中,该无阻流程终止于该相反对壁部,并受到来自邻接该相反对壁部之沿周区的副流所干扰者。7﹒如请求专利部份第5项之装置,包含环形导引机构,安装在该容器内,自该充向内隔开,使该核心区自该沿用区分离,该导引机构一端自该磨区延伸,他端至与该横壁机构隔开之水准,因而,该流体载剂媒质有主流,轴向朝该环形导引机构内之他端,而逆流轴向朝该环形导引机构之一端外侧者。8﹒如请求专利部份第7项之装置,其中,该进料机构包含一开孔,在该圆筒形,于该导引机构二端间之水准,因此,将粉状物料导入该载剂媒质之逆流内者。9﹒如请求专利部份第5项之装置,其中,该进料机构包含通入该磨区内之开孔,由此将粉状物。10﹒如请求专利部份第5项之装置,包含长形管塞机构,轴向设置于该核心区内,该一端终止于超出该磨区,以防沿该涡流之中央轴线形成湍流者。11﹒如请求专利部份第10项之装置,其中,该出口机构包括在该横壁内之中央圆形开孔,该管塞机构延伸贯穿该开孔,与该开孔形成环形排放管道,以排放流体媒质之第二部份,以及其内所夹带粉状物料者。12﹒如请求专利部份第11项之装置,包含机构,以调节该环形排放通道之流动面积者。13﹒如请求专利部份第12项之装置,其中,该出口机构包括可轴向伸缩之管状管道,自该横壁轴向突入该核心区,与该管塞机构呈外接关系,该管塞机构之外径系在该管道开口下端内斜缩,故该管道伸长时;减少流动面积,该管道缩短时,则增加流动面积者。14﹒如请求专利部份第4项之装置,其中,该核心区之轴线垂直,而喷嘴系对水平倾斜,其倾斜角为该喷嘴分歧喷射角之至少1/2者。15﹒如请求专利部份第4项之装置,其中,该喷嘴方向偏离该中央核心轴线之半径方向,其角位距离为分歧喷射角之至少1/2者。16﹒如请求专利部份第4项之装置,其中,该分歧喷射角大约25者。17﹒如请求专利部份第4项之装置,包含机构以供应载剂媒质至该喷嘴,以产生出口流速在音速范围者。18﹒如请求专利部份第1项之装置,其中,该出口机构包含可调节之流量调节机构,以控制该容器内之压力者。19﹒如请求专利部份第18项之装置,其中,该出口机构含有排放室,超出该横壁机构,与该核心区共轴,并经其间之轴同通道相通,该流量调节机构包括与该通道共存之盘,设置在该核心区内,该盘与该通道间之间隔,提供流动面积,比通过该轴向出口通道之流动面积为小者。20﹒如请求专利部份第19项之装置,包含该盘之支持轴,安装在该排放室内供轴向调节,并突经该通道,以支持该机,于选定之离该通道的间隔者。21﹒如请求专利部份第18项之装置,其中,该出口机构包含排放室,超出该横壁机构,与该核心区共轴,并经其间之轴向通道相通,该排放室有切线排放通道,内设挡板;以调节磨内之压力者。22﹒将具有不同质量之粒子的粉状物料加以粉碎之方法,包括如下步骤:供应流体媒质之主流至容器,在该容器之核心区内,产生该流体媒质之轴向流动涡流,将轴向流动媒质之第一部份,在该核心区之远端向外折流,进入围绕该核心区之沿周围内,指引该第一部份逆流通过该沿周区,并导入该主流内,遂行该流体媒质之循环,经该核心区远端之出口,排出该流量之第二部份,将粉状物导入该循环流量内,该项粉碎系如此进行,即以容器邻接周缘向内突出之复数喷流供应该流体媒质,该喷流有分歧喷射角,提供高速出口流动,随该出口流动距离增加而递减流速,该喷流系相隔一距离,以提供该喷流出口流动中间的不同流速,粉状物料被夹带于该喷流内,因而视夹带物料之媒质流速及被夹带粒之重量,而受到不同之加速,此不同之加速使该粒子间进行冲击者。23﹒如请求专利部份第22项之方法,其中,供应流体媒质之步骤受到控制,以提供该喷流内之出口流速在音速范围内者。24﹒如请求专利部份第22项之方法,其中,轴向流动之涡流遂行该涡流内所夹带粉状物料粒子之离心分类,大于指定质量之粒子随副流循环,并包含此步骤,将其余之粒子连同该第二部份,经轴向设置超出该涡流之中央排放通道排出者。25﹒如请求专利部份第22项之方法,包含此步骤:提供来自各喷嘴之出口流量的长形无阻自由路径,将该副流导入邻接喷嘴之路径,并在该路径远端,以该副流干扰该路径者。26﹒如请求专利部份第22项之方法,其中,该喷流受控制,以提供在该喷流与该涡流出口间沿周缘移动至90者。 |
