发明名称 |
MANUFACTURE OF IC AND PHOTOCONDUCTIVE PHOTORESIST COMPOSITE USED THEREFOR |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS61125019(A) |
申请公布日期 |
1986.06.12 |
申请号 |
JP19850157148 |
申请日期 |
1985.07.18 |
申请人 |
INTERNATL BUSINESS MACH CORP |
发明人 |
KAREN HIRU BURAUN |
分类号 |
H01L21/302;G03F7/004;G03F7/022;G03F7/038 |
主分类号 |
H01L21/302 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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