| 主权项 |
1.一种氙之制造方法,其特征为,将空气分离装置之上部精馏塔主凝结器之液氧中之氙导入复数吸附塔,此等塔内已填充有可选择吸附氙的吸附剂,以施行吸附及去附而顺次浓缩氙同时藉触媒将烃类燃烧除去,由是得到高纯度氙者。2.如申请专利范围第1.项记载之氙之制造方法,其特征为,使空气分离装置之上部精馏塔主凝结器所导出之含氙液氧经过气化两流入已填充有可选择吸附氙的吸附剂且保持高于液化温度之温度的吸附塔,直至氙漏出(break througy ),以由浓缩回收氙,将该气体中之烃类藉触媒燃烧除去后使其氙浓缩气体流入已填充有可选择吸附氙的吸附剂且已冷却至高于该气体液化温度的吸附塔,直至氙漏出,然后用产品气体之一部份排净吸附塔内而得到高纯度氙者。3.如申请专利范围第1.项记载之氙之制造方法,其特征为,使空气分离装置之上部精馏塔主凝结器所导出之含氙液氧通过气化而流入已填充有可选择吸附氙的吸附剂且保持高于液化温度之温度的吸附塔,直至氙漏出,以由浓缩回收氙,将该气体中之烃类藉触媒燃烧除去后使其氙浓缩气体流入已填充有可选择吸附氙的吸附剂且已冷至高于该气体之液化温度的吸附塔,直至氙漏出,以由浓缩回收氙,然后使此氙浓缩气体流入已填充有可选择吸附氙的吸附剂的吸附塔,直至氙漏出后,由产品气体之一部份排净吸附塔内而回收高纯度氙者。图式之简单说明:第1图为本发明一实施例之流程图,第2图为本发明另一实施例之流程图。1……精馏塔, 2.5.7……吸附塔,3……触媒塔, 4……去除塔,6……产品气槽, 8……DEOXO,9.10……氙浓缩气体。 |
