| 主权项 |
1﹒一种使用于同时侦检密封口粗漏与微漏系统之侦检介质,其包括:可侦检液体,以及溶于可侦检液体之可侦检气体,其中该可侦检液体系含约16至86百分比重的与碳键结之氟,且该可侦检气体系全氟化气体、氨或辐射追踪气体。2﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中侦检介质实质上包含溶于可侦检液体之可侦检气体。3﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中侦检介质包含溶于可侦检液体之可侦检气体。4﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中可侦检液体为全氟化液体。5﹒根据申请专利范围第4项之侦检介质,其中全氟化液体为全氟庚烷。6﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中液体择自该族包括全氟化烷类,全氟化胺类,全氟化胺基醚类,全氟化醚类,氯氟碳液体,氢氯氟碳液体与氢氟碳液体。7﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中液体具有大约30℃至大约180℃之沸点。8﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中液体具有小于大约75达因/公分之表面张力。9﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中可侦检气体在可侦检液体中具有之溶解度在标准温度与压力下100mL液体至少大约5cc气体。10﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中可侦检气体择自该族包括全氟化烷类,全氟化胺类,全氟化环化合物,全氟化非环醚类,全氟化环醚类,氯氟碳气体,氢氯氟碳气体与氢氟碳气体。11﹒根据申请专利范围第1项之侦检介质,其中侦检气体为全氟化气体。12﹒根据申请专利范围第11项之侦检介质,其中全氟化气体择自该族包括六氟化硫,六氟乙烷,全氟甲烷与三氟甲基五氟化硫。13﹒一种在具有洞与外部表面之密封包装上侦检漏处之方法,该方法包括:提供侦检介质包括溶于可侦检液体之可侦检气体;在压力下将封口包装曝露至侦检介质;将封口包装从侦检介质中移开;以及侦检侦检成份是否已进入封包装,作为漏出之表示,其中该可侦检液体系含约16至86百分比重的与碳链结之氟,且该可侦检气体系在全氟化气体,氮或辐射追踪气体。14﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质之步骤包括溶于全氟化液体之可侦检气体。15﹒根据申请专利范围第14项之方法,其中提供侦检介质之步骤包括提供溶于全氟庚烷之可侦检气体。16﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质之步骤包括提供溶于可侦检液体之可侦检气体,该可侦检液体择自该族包括全氟化烷类,全氟化胺类,全氟胺基醚类,全氟化醚类,氯氟碳气体,氢氯氟碳气体与氢氟碳液体。17﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质步骤包括提供具有约30℃至大约180℃之沸点之可侦检液体。18﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质之步骤包括提供具有少于大约75dyne/cm表面张力之可侦检液体。19﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质之步骤包括提供在可侦检液体中于标准温度与压力下具有每100mL液体至少大约5cc气体溶解度之可侦检气体。20﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质步骤包括提供气体择自该族包括全氟化烷类,全氟化胺类,全氟化环化合物,全氟化非环醚类,全氟化环醚类,氯氟碳气体,氢气氟碳气体与氢氟碳气体,其溶于可侦检液体中。21﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中提供侦检介质步骤包括提供溶于可侦检液体之全氟化气体。22﹒根据申请专利范围第21项之方法,其中提供侦检介质步骤包括提供全氟化气体择自该族包括六氟化硫,六氟乙烷,全氟甲烷与三氟甲基五氟化硫,其溶于可侦检液体中。23﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中将封口包装曝露至侦检介质步骤包括:提供轰击室;将封口包装置于轰击室;以及将侦检介质入轰击室至足以浸盖封口包装。24﹒根据申请专利范围第23项之方法,进一步包括:在引仟侦检介质之前在一段选择时间内将轰击室清除至选择之压力,其中如果有粗漏存在则须选择压力与时间清除洞穴。25﹒根据申请专利范围第24项之方法,其中清除步骤包括清除轰击室至大约5torr大约30分钟。26﹒根据申请专利范围第23项之方法,其中将封口包装曝露至侦检介质步骤包括在压力下曝露。27﹒根据申请专利范围第26项之方法,进一步包括:在引进侦检介质设将轰击室加压至足以便气体自液体分离且经由微漏进入洞中之压力;以及保持一段时间压力足以让可侦检气体或可侦检液体之可侦检量经由微漏与粗漏进入洞中。28﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中移开封口包装步骤包括:空气乾燥封口包装以蒸乾封口包装表面外部之侦检介质。29﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中侦检步骤包括侦检可侦检液体蒸气量是足在从封口包装逸出开始量之上而作为粗漏之表示。30﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中侦检步骤包括侦检可侦检气体可侦检液体蒸气量是否在从封口包装退出开始量之上而当作为粗漏或微漏之表示。31﹒根据申请专利范围第13项之方法,进一步包括步骤:在将包装移离侦检介质后将封口包装于试骤验室;以及收集从洞中逸出之试验室侦检介质成份。32﹒根据申请专利范围第31项之方法,进一步包括部份清除试验室步骤以加速已进洞中侦检介质成份之逸出。33﹒根据申请专利范围第31项之方法,进一步包括藉由用气相层析法分离试验室中收集之侦检介质成份与测量该成份相对量,来侦检侦检介质成份是否已逸出洞穴。34﹒一种用于侦检密封装置粗漏与微漏开口之方法,其包括:提供侦检介质,包括溶于可侦检液体之可侦检气体;将封口装置曝露至侦检介质;提供密封口之压力差以使可侦检气体或可侦检液体蒸气与侦检介质分离﹒而经由微漏开口进入封口装置,且使可侦检液体与可侦检气体经由粗漏开口进入封口装置;将封口装置移离侦检介质;以及侦检侦检介质成份是否已进入封口装置而当作漏出之表示,其中该可侦检液体系含约16至86百分比重的与碳键结之氟,且该可侦检气体系全氟化气体、氦或辐射追踪气体。35﹒一种经安置以侦检密封包装粗漏与微漏之设备,其包括:侦检介质包括溶于全氟化液体之可侦检气体;用来保持封口包装之轰击室装置;清除轰击室之装置;将侦检介质引入轰击室之装置;将轰击室加压之装置;侦检侦检介质成份是否逸出封口包装而当作漏出表示之装置。 |
