| 发明名称 |
ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY EQUIPMENT AND ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH07142352(A) |
申请公布日期 |
1995.06.02 |
| 申请号 |
JP19930287897 |
申请日期 |
1993.11.17 |
| 申请人 |
NEC CORP |
发明人 |
ITO KATSUSHI;YAMASHITA HIROSHI |
| 分类号 |
G21K5/04;G03F7/20;H01J37/09;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G21K5/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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