发明名称 吸收物件及用于吸收物件之液体处理元件
摘要 一种吸收物件,其包括视需要可透液体面片、视需要有时不透液体背片,一配置于面片与背片之间的吸收夹心,(若有的话)及至少有一种液体处理元件,此液体处理元件包括具有至少一个可促进液体迅速定向扩散的带微结构亲水表面的薄片;液体处理元件与吸收夹心接触。同时,液体处理元件,其包括具有至少一个可促进液体迅速定向扩散的带微结构亲水表面的薄片。表面具有众多α(Alahp)角宽度的V型凹槽,α在约10°至约120°之间。亲水性表面与水之接触角度为θ(Theta)θ等于或小于(90°-α/2)。
申请公布号 TW260954 申请公布日期 1995.10.21
申请号 TW083216189 申请日期 1992.12.16
申请人 孟尼苏泰矿务及制造公司 发明人 艾伦.李奥纳德.诺利恩;雷夫.伊尔.伍德;雷蒙.派特利克.强斯顿
分类号 A61F13/15 主分类号 A61F13/15
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1. 一种吸收物件,此物件包含可透液体面片、背片、及配置于该面片与背片间的吸收夹心;其特征为该物件包含至少一个液体处理元件,此元件包含至少有一表面带亲水性微结构,且其中有衆多可促进液体定向扩散的凹构的薄片。2. 根据申请专利范围第1项之吸收物件,其更进一步之特征为,至少有下列中的一项:(a) 该带微结构之表面与该吸收夹心相接触;或(b) 该亲水表面配置于于该背片内部表面上;或(c) 该液体处理元件埋在该吸收夹心内;或(d) 该液体处理元件不渗透含水液水;或(e) 该液体处理元件大体上与该吸收夹心共同伸长。3. 根据申请专利范围第1项之吸收物件,其更进一步之特征为,该液体处理元件在其至少一面具有衆多V型凹槽。4. 根据申请专利范围第3项之吸收物件,其更进一步之特征为,至少有下列中的一项:(a) 该凹槽的角宽在约10与约120之间;或(b) 该凹槽的角宽在约10与约90之间;或(c) 该凹槽的角宽在约20与约60之间;或(d) 该凹槽深度在约5与约3000微米之间;或(e) 该凹槽深度在约100与约1500微米之间;或(f) 该凹槽深度在约200与约1000微米之间;(g) 该凹槽的角宽为,在约10与约120之间,而该亲水表面与水的接触角为,等于或小于(90-/2)。5. 根据申请专利范围第1项之吸收物件,其更进一步言之特征为,至少有下列中的一项:(a) 该液体处理元件具有衆多缺口曲率半径为约25微米或更小的凹槽;或(b) 该液体处理元件具有衆多缺口曲率半径为约10微米或更小的凹槽;或(c) 该液体处理元件具有衆多缺口曲率半径为约5微米或更小的凹槽。6. 根据申请专利范围第1项之吸收物件,其更进一步之特征为,至少有下列中的一项:(a) 该液体处理元件具有衆多缺口为几何不连续性的凹槽;或(b) 该液体处理元件具有衆多壁面向外展开的凹槽;或(c) 该液体处理元件具有衆多壁面向内展开之凹槽;或(d) 该凹槽在其整个长度上大体上平行;(e) 该液体处理元件是细长形,且该凹槽沿着该液体处理元件之纵轴定向;或(f) 该凹槽侧边间隔,沿着其纵轴改变。7. 根据申请专利范围第1项之吸收物件,其更进一步之特征为,该液体处理元件中有一或多个孔洞。8. 一种用于吸收物件之液体处理元件,此物件包含具有至少一个可促进液体定向扩散的带微结构亲水表面的薄片,其特征为该亲水表面中有衆多V型凹槽,其中该凹槽的角度为,在约10与约20之间;及该亲水表面与水的接触角为,等于或小于(90-/2)。9. 一种吸收物件,其特征为该物件包含吸收团,与至少一个液体处理元件,此元件包含具有至少一个带微结构亲水表面,且其表面中有衆多孔洞可促进液体定向扩散的凹槽的薄片,该亲水表面与该吸收夹心相接触。10.根据申请专利范围第9项之吸收物件,其更进一步之特征为该物件在至少一面更包含固定元件。图示简单说明:图1是本创作尿布一具体例的切开图;图2是图1尿布的剖面图;图3与图4是本创作代表性液体处理元件具体例的正视图;图5与图6是本创作尿布另两个具体例的切面开图;图7a与图7b是用来解释液体在表面相互作用的概略图;图8-11是具有不同剖面轮廓的凹槽的薄膜剖面图;图12是本创作尿布另一个具体例的剖面图;及
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