醯胺化反应触媒浓缩物

摘要

一种制备尼龙之方法，其中较低分子量之一级聚醯胺，具有20至6O相对黏度，像藉由熔化掺合一或多种醯胺化反应触媒与该一级聚醯胺，而转化成较高分子量之二级聚醯胺，具有40至150相对黏度，其改良包括于175℃至300℃范围内之温度及介于200与760㎜Hg之压力下，在一级聚醯胺熔化物加入至少一种由与尼龙66混合之醯胺化反应触媒而制造之触媒主批，其中该醯胺化反应触媒系选自2-(2'-啶基)乙基膦酸、2-胺基乙基膦酸、 X(CH2)nPO3R2，其中X系选自2-啶基、-NH2、-NHR'、及-NR'2，n=2至5，而且R与R'分别为H或烷基，且醯胺化反应触媒在主批之浓度为50至400莫耳／10^6克尼龙66；和一种触媒熔化物，其系包括含在尼龙66基质中之醯胺化反应触媒的主批，其中触媒在主批熔化物之浓度为100-400莫耳触媒／10^6克聚合物，与选自以下之聚醯胺：Ⅰ.H2NR"NH-[C(=O)-R"'-C(=O)-NH-R"-NH]n-C(=0)-R"'-COOH或II. H2N-R"-C(=O)-[NH-R"-C(=O)]n-NH-R"COOH其中R"选自包括含2至12个碳原子之直链或支链伸烷基之组，而且R'''选自包括含2至12个碳原子之直链或支链伸烷基，在构造Ⅰ则及芳族基之组。

主权项

1.一种制备胺基酸聚合物之方法,其步骤包括:a)制备15-95重量%之胺基酸及5-85重量%之酸催化剂之反应混合物,其中该胺基酸系选自门冬氨酸、谷氨酸及其混合物,而该重量%系以该反应混合物之总重量为基准;b)将反应混合物加热至110℃-300℃,同时藉下列方法维持该反应混合物为均匀混合物;i)对该反应混合物添加硫酸钠作为处理辅剂使该反应混合物中之该处理辅剂对每1重量份之该反应混合物以1-3:3-1之比例存在;ii)使用选自:备有加热与搅拌该反应混合物以及由该反应混合物去除水份之机构之混合装置,备有搅拌该反应混合物之装置之乾燥机,研磨装置以及搅拌装置中之一种机械装置;或iii)将上述i)及ii)并用;c)由该反应混合物去除水份;及d)回收胺基酸聚合物。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该反应混合物系被维持为粒径小于5亳米之均匀混合物。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该反应混合物系在一旋转盘乾燥机中被加热。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该反应混合物系被加热至150℃-280℃之温度。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该酸催化剂系选自:含磷及硫之含氧酸,含一或多种酸式氢之有机或无机盐及其混合物。6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该酸催化剂之用量系5-50重量%之范围。7.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该胺基酸聚合物系经水解者。8.一种洗洁组成物,系含至少一种依申请专利范围第1项所述方法制备之胺基酸聚合物者。9.如申请专利范围第8项所述之洗洁组成物,其中该胺基酸聚合物系占组成物总重量之0.5-50重量%。10.如申请专利范围第8项所述之洗洁组成物,其中该组成物系一种清洗剂。11.如申请专利范围第8项所述之洗洁组成物,其中该胺基酸聚合物系助洁剂,占组成物总重量之5-40重量%。12.如申请专利范围第8项所述之洗洁组成物,其中该胺基酸聚合物系去泥剂,占组成物总重量之1-10重量%。13.如申请专利范围第8项所述之洗洁组成物,其中该胺基酸聚合物系抗再沉积抑制剂,占组成物总重量之1-10重量%。14.一种在自动洗碗机中之清洗方法,其特征为使用申请专利范围第8项所述之组成物。15.一种硬表面之洗洁方法,其特征为使用申请专利范围第8项所述之组成物。16.一种水处理组成物,含有至少一种依申请专利范围第1项所述方法制备之胺基酸聚合物及一种惰性稀释剂,其中胺基酸聚合物之总量为组成物总重量之20-60重量%。17.一种抑制水性系统发生结垢之方法,其特征为使用申请专利范围第16项所述之组成物。18.一种抑制水系统中发生结垢之方法,系将0.1-500ppm之至少一种依申请专利范围第1项所述方法制备之胺基酸聚合物添加于水性系统中。