| 主权项 |
1.一种用以维护蚀刻设备之清洁装置,其中上述清洁装置包括了:一外层容器;一具有许多由大而小渐进排列的孔之内层容器;一用以作为遮盖内层容器的圆形盖子;及一抽气装置,此装置可将气体在一定压力下,透过一帮浦(Pump)穿越该外层容器与该内层容器之边缘到达该外层容器的另一端而排出,换言之使得气体自该内层容器到该外层容器而吸出至该帮浦而吹至该外层容器外侧。2.如申请专利范围第1项之方法,其中上述有毒气体包括氟、氧、氢氯酸、氰酸及氢氟酸等气体及各种与清洁化学品所产生之化合物。3.如申请专利范围第1项之方法,其中上述由大而小渐进排列的孔所控制的气体通量皆相同。4.如申请专利范围第1项之方法,其中上述圆形盖子包括以防尘布制成。5.如申请专利范围第4项之方法,其中上述防尘布包含弹性材料。6.一种用以维护半导体蚀刻设备之清洁装置,其中上述清洁装置包括了:一外层容器,形成圆形且使用于隔离有毒气体于外具有一孔状外延出口,该外层容器孔状具进口与出口端,该孔状之形成以接收及通过有毒气体为主;一内层容器,形成圆形具有一孔于其上且同时具有许多孔洞存在;一沿内层容器形成的渠道;一用以作为遮盖内层容器的圆形盖子;一抽气装置来源;及一许多滚轴,用以提供承载及旋转之双重功能。7.如申请专利范围第6项之装置,其中上述外层容器装置于该内层容器之外侧。8.如申请专利范围第6项之方法,其中上述内层容器具有孔洞。9.如申请专利范围第8项之方法,其中上述孔洞之尺寸为渐进式分布。10. 如申请专利范围第6项之方法,其中上述盖子之尺寸直径小于该内层容器。11. 如申请专利范围第6项之方法,其中上述滚轮沿该渠道移动。12. 如申请专利范围第6项之方法,其中上述内层容器是可旋转的。 |
