| 主权项 |
1.一种在曝光装置中之基板(17)用之容纳与支撑系统,其具有所配备之在座标X,Y中可移动之静电夹头配置(1),以在当曝光时,支撑在一覆盖表面(5)上之基板(17),其特征为:其设有至少一个第二静电夹头配置(6),其具有一个另外的用于基板(17)之覆盖表面(7),其中此第二夹头配置(6)具有其覆盖表面(7),在座标Z的方向中,相对于第一夹头配置(1)的覆盖表面(5)作不同的配置。2.如申请专利范围第1项之基板用之容纳与支撑系统,其中此两个覆盖表面(5,7)之和大约相对应于所容纳基板(17)的表面大小。3.如申请专利范围第1项之基板用之容纳与支撑系统,其中此第二夹头配置(6)在座标Z的方向中可以一直移动至在覆盖表面(5)之前的终点位置Z2,其对应于用于基板(17)的一容纳位置。4.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中此第二夹头配置(6)是于位置Z1中可移动,在此位置中它是与此等覆盖表面(5,7)位于一平面中,其中位置Z1相对应于当曝光时用于基板(17)的支撑位置Z1。5.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中此第二夹头配置(6)是在位置Z2中可移动,在其中覆盖表面(7)是在覆盖表面(5)之后。6.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中覆盖表面(5,7)形成为圆形表面并且彼此同心配置,其中覆盖表面(7)是由覆盖表面(5)所包围,并且具有小于覆盖表面(5)1/3,较佳是小于其1/4之大小。7.如申请专利范围第4项之基板用之容纳与支撑系统,其中覆盖表面(5,7)形成为圆形表面并且彼此同心配置,其中覆盖表面(7)是由覆盖表面(5)所包围,并且具有小于覆盖表面(5)1/3,较佳是小于其1/4之大小。8.如申请专利范围第5项之基板用之容纳与支撑系统,其中覆盖表面(5,7)形成为圆形表面并且彼此同心配置,其中覆盖表面(7)是由覆盖表面(5)所包围,并且具有小于覆盖表面(5)1/3,较佳是小于其1/4之大小。9.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中座标Y平行对准于重力之作用方向,并且座标X,Z垂直对准于重力之作用方向。10.如申请专利范围第5项之基板用之容纳与支撑系统,其中座标Y平行对准于重力之作用方向,并且座标X,Z垂直对准于重力之作用方向。11.如申请专利范围第6项之基板用之容纳与支撑系统,其中座标Y平行对准于重力之作用方向,并且座标X,Z垂直对准于重力之作用方向。12.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中此两个夹头配置(16)与一吊车(3)相连接,其在座标Y中可笔直地移动,其中此第一夹头配置(1)与吊车(3)固定连接,并且此第二夹头配置(6)经由一直线推动器,其在Z方向中对第二夹头配置(6)移动,而与吊车(3)连接。13.如申请专利范围第6项之基板用之容纳与支撑系统,其中此两个夹头配置(16)与一吊车(3)相连接,其在座标Y中可笔直地移动,其中此第一夹头配置(1)与吊车(3)固定连接,并且此第二夹头配置(6)经由一直线推动器,其在Z方向中对第二夹头配置(6)移动,而与吊车(3)连接。14.如申请专利范围第9项之基板用之容纳与支撑系统,其中此两个夹头配置(16)与一吊车(3)相连接,其在座标Y中可笔直地移动,其中此第一夹头配置(1)与吊车(3)固定连接,并且此第二夹头配置(6)经由一直线推动器,其在Z方向中对第二夹头配置(6)移动,而与吊车(3)连接。15.如申请专利范围第12项之基板用之容纳与支撑系统,其中此第一夹头配置(1)经由一承载板(2),而与吊车(3)连接。16.如申请专利范围第12项之基板用之容纳与支撑系统,其中此吊车(3)配置于平行对准于座标Y的柱状体之上,并且在此柱状体(4)上可移动地以滑动底座及/或辊子(18)笔直行进,其中除了滑动底座及/或辊子(18)之外,设有可导入夹紧装置,将吊车(3)在柱状体(4)上暂时停住。17.如申请专利范围第15项之基板用之容纳与支撑系统,其中此吊车(3)配置于平行对准于座标Y的柱状体之上,并且在此柱状体(4)上可移动地以滑动底座及/或辊子(18)笔直行进,其中除了滑动底座及/或辊子(18)之外,设有可导入夹紧装置,将吊车(3)在柱状体(4)上暂时停住。18.如申请专利范围第16项之基板用之容纳与支撑系统,其中此夹紧装置与压电式推动器相连接。19.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中此柱状体(4)与至少一个在X方向中移动地被操纵的滑板相连接。20.如申请专利范围第9项之基板用之容纳与支撑系统,其中此柱状体(4)与至少一个在X方向中移动地被操纵的滑板相连接。21.如申请专利范围第16项之基板用之容纳与支撑系统,其中此柱状体(4)与至少一个在X方向中移动地被操纵的滑板相连接。22.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中设有作为用于第二夹头配置(6)之直线推动器之气压式推劫器(11)。23.如申请专利范围第12项之基板用之容纳与支撑系统,其中设有作为用于第二夹头配置(6)之直线推动器之气压式推动器(11)。24.如申请专利范围第19项之基板用之容纳与支撑系统,其中设有作为用于第二夹头配置(6)之直线推动器之气压式推动器(11)。25.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中两个夹头配置(1,6)中的每一个由一个基本主体(8,9)所构成,在其上至少以区段的方式涂布导电层(13,15),并在此之上各自涂布一绝缘层(14,16),其中此绝缘层(14,16)形成用于基板(17)的覆盖表面(5,7)。26.如申请专利范围第12项之基板用之容纳与支撑系统,其中两个夹头配置(1,6)中的每一个由一个基本主体(8,9)所构成,在其上至少以区段的方式涂布导电层(13,15),并在此之上各自涂布一绝缘层(14,16),其中此绝缘层(14,16)形成用于基板(17)的覆盖表面(5,7)。27.如申请专利范围第22项之基板用之容纳与支撑系统,其中两个夹头配置(1,6)中的每一个由一个基本主体(8,9)所构成,在其上至少以区段的方式涂布导电层(13,15),并在此之上各自涂布一绝缘层(14,16),其中此绝缘层(14,16)形成用于基板(17)的覆盖表面(5,7)。28.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中此支撑系统,其中承载板2与基本主体(8,9)是由一种玻璃陶瓷所制成,其具有温度膨胀系数=00.05106K-1,以及弹性模数E=90.6Gpa。29.如申请专利范围第9项之基板用之容纳与支撑系统,其中承载板2与基本主体(8,9)是由一种玻璃陶瓷所制成,其具有温度膨胀系数=00.05106K-1,以及弹性模数E=90.6Gpa。30.如申请专利范围第19项之基板用之容纳与支撑系统,其中承载板2与基本主体(8,9)是由一种玻璃陶瓷所制成,其具有温度膨胀系数=00.05106K-1,以及弹性模数E=90.6Gpa。31.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中其中滑动底座及/或辊子(18),以及柱状体(4)是由一种高度坚硬的陶瓷材料所制成,其具有弹性模数在大约300至400Gpa的范围中。32.如申请专利范围第19项之基板用之容纳与支撑系统,其中其中滑动底座及/或辊子(18),以及柱状体(4)是由一种高度坚硬的陶瓷材料所制成,其具有弹性模数在大约300至400Gpa的范围中。33.如申请专利范围第28项之基板用之容纳与支撑系统,其中其中滑动底座及/或辊子(18),以及柱状体(4)是由一种高度坚硬的陶瓷材料所制成,其具有弹性模数在大约300至400Gpa的范围中。34.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中当在容纳基板(17)期间,一方面在第二夹头配置(6)的导电层(15)上,另外一方面在在基板(17)上,并且当在曝光位置中支撑基板(17)期间,一方面在第一夹头配置(1)的导电层(13),另外一方面在基板(17)上,施加一直至5000伏特(U)的电压。35.如申请专利范围第16项之基板用之容纳与支撑系统,其中当在容纳基板(17)期间,一方面在第二夹头配置(6)的导电层(15)上,另外一方面在在基板(17)上,并且当在曝光位置中支撑基板(17)期间,一方面在第一夹头配置(1)的导电层(13),另外一方面在基板(17)上,施加一直至5000伏特(U)的电压。36.如申请专利范围第25项之基板用之容纳与支撑系统,其中当在容纳基板(17)期间,一方面在第二夹头配置(6)的导电层(15)上,另外一方面在在基板(17)上,并且当在曝光位置中支撑基板(17)期间,一方面在第一夹头配置(1)的导电层(13),另外一方面在基板(17)上,施加一直至5000伏特(U)的电压。37.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中在承载板(2)及/或在第一夹头配置(1)上设有两个镜子表面(19,20),其作为用于计量学系统的参考镜,并且由它而指向座标X,Y中的各自方向。38.如申请专利范围第12项之基板用之容纳与支撑系统,其中在承载板(2)及/或在第一夹头配置(1)上设有两个镜子表面(19,20),其作为用于计量学系统的参考镜,并且由它而指向座标X,Y中的各自方向。39.如申请专利范围第16项之基板用之容纳与支撑系统,其中在承载板(2)及/或在第一夹头配置(1)上设有两个镜子表面(19,20),其作为用于计量学系统的参考镜,并且由它而指向座标X,Y中的各自方向。40.如申请专利范围第1至3项中任一项之基板用之容纳与支撑系统,其中此承载板(2)及/或基本主体(8,9)具有材料凹口以减轻重量。41.如申请专利范围第19项之基板用之容纳与支撑系统,其中此承载板(2)及/或基本主体(8,9)具有材料凹口以减轻重量。42.如申请专利范围第37项之基板用之容纳与支撑系统,其中此承载板(2)及/或基本主体(8,9)具有材料凹口以减轻重量。43.如申请专利范围第1至3项之基板用之容纳与支撑系统,其中在绝缘层(14,16)中加上用于冷却介质的通道,其中在流入与流出中的通道用于注入冷却介质,而作为冷却介质较佳是使用氦。44.如申请专利范围第19项之基板用之容纳与支撑系统,其中在绝缘层(14,16)中加上用于冷却介质的通道,其中在流入与流出中的通道用于注入冷却介质,而作为冷却介质较佳是使用氦。45.如申请专利范围第40项之基板用之容纳与支撑系统,其中在绝缘层(14,16)中加上用于冷却介质的通道,其中在流入与流出中的通道用于注入冷却介质,而作为冷却介质较佳是使用氦。图式简单说明:第一图是根据本发明之配置的主要说明。第二图是第一图之截面。第三图是操纵夹头,其具有基板在其容纳位置中。第四图是支撑夹头与操纵夹头,其具有基板在其曝光位置。 |
