| 摘要 |
<p>본 발명은 리소그래피 장비에서 사진 전사하고자 하는 원본인 마스크의 상을 광학계를 사용하여 기판 위에 도포된 감광제 층에 맺히게 함에 있어서 상이 맺히는 위치를 광학계의 광축과 동일한 방향으로 어느 정도의 범위에 걸쳐서 형성되게 함으로써 광학계의 초점심도를 확장하고 그 범위를 조절할 수 있는 복굴절 물질을 이용한 광학계의 초점심도 확장범위 조절방법 및 장치에 관한 것으로 복굴절 물질로 평행평판과 같은 광학부품을 제작하여 광학계 내에 설치하면 입사한 빛의 편광방향에 따라서 그 굴절률에 차이가 나타나게 되어 빛이 지나가게 되는 경로가 달라지게 되고, 그 결과 광학계의 광축 방향을 따라 상을 맺는 위치가 달라지게 되어 일정한 범위에서 연속적으로 상을 맺게 됨으로써 이 범위에서 원하는 해상도의 상을 얻을 수 있게 된다. 따라서 복굴절 물질로 만들어진 광학부품의 방향 조절과 두께 변화를 통하여 원하는 해상도를 유지하면서 초점의 위치를 조절하므로서 초점심도의 확장과 정확한 초점 위치를 유지하고자 하는 리소그래피 장비 등의 광학계에 장착되어 반도체나 디스플레이 소자 등을 사진 전사적 방법에 의해 제작할 때 원하는 해상도의 상이 맺히는 범위를 광축 방향으로 확장하고 정확한 초점 위치의 구현과 유지에 사용할 수 있다.</p> |
