发明名称 SUBSTRATE LIQUID PROCESSING DEVICE AND CONTROL METHOD THEREOF
摘要 본 발명의 기판 액처리 장치는, 회전 구동부에 의해 회전되는 회전판과, 상기 회전판의 둘레 가장자리를 따라 연장되고 기판의 둘레 가장자리를 지지하는 기판 지지부와, 상기 기판 지지부의 상단에 마련되고, 상기 기판을 상기 기판 지지부에 안내하는 안내부와, 상기 기판 지지부에 의해 상기 둘레 가장자리가 지지되는 상기 기판에 대하여 위쪽으로부터 액체를 공급하는 공급부를 구비하며, 상기 안내부가, 상기 회전판의 둘레 방향을 따라 적어도 3개 이상 마련되고, 상기 기판 지지부에 의해 상기 둘레 가장자리가 지지되는 상기 기판의 표면보다 높은 높이를 갖고 있는 것이다.
申请公布号 KR101682748(B1) 申请公布日期 2016.12.12
申请号 KR20137006291 申请日期 2012.09.05
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 모우리 노부히코;히다카 쇼이치로
分类号 H01L21/304;G03F7/20;H01L21/027 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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