| 摘要 |
本发明主要系于植入像素选择用电晶体之元件领域的半导体基板上，具有交互重覆层间绝缘膜与金属层而成膜之层积构造的液晶面板用基板中，可不须使被抛光膜之层间绝缘膜予以厚膜化，即可达成抛光之均一性的构造。解决手段为：液晶面板用基板系于像素领域中，具备通过开设于第2金属层所成遮光膜12之开口部12a而夹持遮光膜下的第2层间绝缘膜11，夹持第1金属层所成配线膜10及遮光膜上之第3层间绝缘膜13而导电连接第3金属层所成之像素电极的连接插塞15。在非像素领域之输入端子衬垫26的周围层积形成第1金属层所成之下层虚拟模样A与第2金属层所成的上层虚拟模样B。且由于提高虚拟模样A、B上之第3层间绝缘膜13的成膜表面位准底面，因此可消除该部份之过抛光。因此可于CMP处理中获得相同的抛光率。 |
