发明名称 | 用于形成高纵横比接触孔之蚀刻方法及组合物 | ||
摘要 | 揭示一种用于形成高纵横比接触孔之蚀刻方法,其所使用之蚀刻用电浆气体组合物系包含氩气、第一碳氟化合物、氧气以及第二碳氟化合物,其中第二碳氟化合物之氟碳比系高于第一碳氟化合物。本发明之方法可使接触孔轮廓维持良好,并可减少蚀刻中产生的蚀刻停止物堆积。 | ||
申请公布号 | TW200504868 | 申请公布日期 | 2005.02.01 |
申请号 | TW092119471 | 申请日期 | 2003.07.17 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 黄则尧;吴常明 |
分类号 | H01L21/3065 | 主分类号 | H01L21/3065 |
代理机构 | 代理人 | 黄庆源 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路六六九号 |