发明名称 用于形成高纵横比接触孔之蚀刻方法及组合物
摘要 揭示一种用于形成高纵横比接触孔之蚀刻方法,其所使用之蚀刻用电浆气体组合物系包含氩气、第一碳氟化合物、氧气以及第二碳氟化合物,其中第二碳氟化合物之氟碳比系高于第一碳氟化合物。本发明之方法可使接触孔轮廓维持良好,并可减少蚀刻中产生的蚀刻停止物堆积。
申请公布号 TW200504868 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW092119471 申请日期 2003.07.17
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 黄则尧;吴常明
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 黄庆源
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路六六九号