| 发明名称 |
PROCEDE DE FORMATION D'UNE ZONE FRAGILE DANS UN SUBSTRAT PAR CO-IMPLANTATION |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
FR2847075(B1) |
申请公布日期 |
2005.02.18 |
| 申请号 |
FR20020013934 |
申请日期 |
2002.11.07 |
| 申请人 |
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE |
发明人 |
ASPAR BERNARD;LAGAHE CHRYSTELLE;SOUSBIE NICOLAS;MICHAUD JEAN FRANCOIS |
| 分类号 |
H01L21/265;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/265;H01L21/322 |
主分类号 |
H01L21/265 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
