发明名称 | 具有低可见性图案的导电膜及其制备方法 | ||
摘要 | 本发明描述了包括涂覆在衬底上的导电层的图案化透明导体。更具体地,透明导体具有低可见性图案。 | ||
申请公布号 | CN104969303B | 申请公布日期 | 2016.11.23 |
申请号 | CN201380070551.9 | 申请日期 | 2013.12.06 |
申请人 | 凯姆控股有限公司 | 发明人 | 杰弗瑞·沃克;迈克尔·R·科纳珀 |
分类号 | H01B1/22(2006.01)I | 主分类号 | H01B1/22(2006.01)I |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 王玉双 |
主权项 | 一种图案化透明导体,包括:非导电衬底;第一导电线,位于所述非导电衬底上,所述第一导电线包括第一导电纳米结构网状物并且具有第一纵向方向;第二导电线,位于所述非导电衬底上,所述第二导电线包括第二导电纳米结构网状物并且具有第二纵向方向;以及绝缘区,使所述第一导电线与所述第二导电线电隔离,所述绝缘区具有沿所述第一纵向方向侧向邻接所述第一导电线的第一非导电边界和沿所述第二纵向方向侧向邻接所述第二导电线的第二非导电边界,其中,所述绝缘区包括设置在所述非导电衬底上并通过非导电间隙彼此电隔离的多个导电材料岛状物,每个导电材料岛状物包括相应的多个导电纳米结构,所述非导电间隙与所述第一和所述第二非导电边界被部分蚀刻,不形成导电网状物。 | ||
地址 | 维尔京群岛托尔托拉岛 |