发明名称 3–烷基–4–取代–羰氧基–2,5– 吩二羧酸酯及其制法
摘要
申请公布号 TW100782 申请公布日期 1988.07.01
申请号 TW07211318 申请日期 1983.04.27
申请人 北兴化学工业股份有限公司;宇部兴产工业股份有限公司 日本 发明人 和田 雄;唐田洋二郎;新光一;佐藤克己
分类号 A01N43/10;C07D333/24 主分类号 A01N43/10
代理机构 代理人 郑自添 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1﹒如下式(I)'吩衍生物之制法式中R 3为c1-4烷基,卤代c1-4烷基, c2-4烯基,c3-6环烷基,甲氧c 1-4烷基,c1-3烷硫甲基,c1- 2烷氧羰甲基,c1-9烷氧基,丙炔氧 基,苯乙烯基,─苯氧乙基,吩基, 喃基,2,3─二溴丙氧基,(A及B 各自为卤素,甲基,甲氧基,甲硫基,m 及n为0,1或2,m+n=0,1或2 ),单C1-4烷胺基,二C1-4烷胺 基,单C5-8环烷胺基,─苯乙胺基 ,二苯胺基,可用一或二个C1-4烷基 取代之─n(CH2),(q为4-5之 整数),C为卤素,D为甲基,甲氧基, 乙醯氧基,硝基或氰基,k为0,1,2 ,l为0,1,2,3),C1-4烷硫 基,烯丙硫基,苯甲硫基(苯基可取代以 甲基),芳烷基(苯基可取代以卤素原子 或甲氧基),R2为环已基,此制法乃令 如下式(II)化合物与如下式(IV) 化合物在二烷,丙酮,苯,二甲基甲醯 胺等惰性溶剂中,有三已胺,叱啶,碳酸 钾,碳酸钠等脱卤化氢剂之存在下,于0 -100℃反应。 2﹒如下式(I)'吩衍生物之制法式中R 3为单C1-4烷胺基,单C5-8环烷 胺基,或─苯乙胺基,R2为C1-4 烷基,烯丙基;若R3,为─N(CH2 )5时,R2为环已基,此制法乃令加下 式(II)化合物与如下式(V)异氰酸 酯式中R6为C1-4烷基,C3-8环 烷基或芳烷基,在二烷,乙醚,烃,苯 等惰性有机溶剂中,有三二胺,啶等叔 胺触媒之存在下,于20─80℃反应。 3﹒如下式(I)'吩衍生物之制法式中R 4为c1-6烷基,二甲胺基或(E为卤 素或甲基,u为0或1),R2为C1─ 4烷基或烯丙基,此制法乃令如下式(I I)化合物在二烷,丙酮,苯,二甲基 甲醯胺等惰性溶剂中,有三乙胺,啶, 碳酸钾,碳酸钠等脱卤化氢剂之存在下于 0-100℃反应。 4﹒如下式(I)'吩衍生物式中R3为C 1-4烷基,卤代C1-4烷基,C2- 4烯基,C3─6环烷基,甲氧C1─4 烷基,C1-3烷硫甲基,C1-2烷氧 羰甲基,C1-9烷氧基,丙炔氧基,苯 乙烯基,─苯氧乙基,吩基,喃基 ,2,3─二溴丙氧基,卤素,甲基,甲 氧基,甲硫基,m及n为0﹒1或2,m +n=0,1或2),单C1-4烷胺基 ,二C1-4烷胺基,单C5-8环烷胺 基,─苯乙胺基,二苯胺基,可用一或 二个C1-4烷基取代之─N(CH2) q(q为4-5之整数),D为甲基,甲 氧基,乙醯氧基,硝基或氨基,k为0, 1,2,l为0,1,2,3),C1─ 4烷硫基,烷丙硫基,苯甲硫基(苯基可 取代以甲基),芳烷基(苯基可取代以卤 素原子或甲氧基),苯氧c1─2烷基( 苯基可取代以卤素),啶─4─基或R 2为c1─4烷基,烯丙基;若R3为─ N(CH2)5时,R2为环已基,5﹒ 一种农园艺用杀菌剂,内含如下式(I) '吩衍生物为有效成份,式中R3为C 1-4烷基,卤代C1-4烷基,C2- 4烯基,C3-6环烷基,甲氧C1-4 烷基,C1-3,烷硫甲基,C1-2烷 氧羰甲基,C1-9烷氧基,丙炔氧基, 苯乙烯基,─苯氧乙基,吩基,喃 基,2,3─二溴丙氧基,(A及B各自 为卤素,甲基,甲氧基,甲硫基,m及n 为0,1或2,m+n=0,1或2), 单C1-4烷胺基,二C1-4烷胺基, 单C5-8环烷胺基,─苯乙胺基,三 苯胺基,可用一或二个C1-4烷基取代 之─N(CH2)q(q为4-5之整数 ),(e为卤素,D为甲基,甲氧基,乙 醯氧基,硝基或氰基,k为0,1,2, l为0,1,2﹒3),C1-4烷硫基 ,烯丙硫基,苯甲硫基(苯基可取代以甲 基),芳烷基(苯基可取代以卤素原子或 甲氧基),苯氧c1-2烷基(苯基可取 代以卤素),─4─基或R2为C1 ─4烷基,烯丙基;若R3为─N(CH 2)5时,R2为环已基。
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