Method for coating a surface of a substrate.

摘要

Eine Vorrichtung zum Beschichten einer Substratfläche (4) mit einer Einrichtung zum Erzeugen einer Gasphase in einer Kammer (1) und mit einem Aktivierungslaser (10) weist erfindungsgemäß eine Maske (11) im Strahlengang des Aktivierungslasers (10) auf. Damit kann eine entsprechend flächig strukturierte Beschichtung (12) auf dem Substrat (1) erzeugt werden. Die Vorrichtung wird insbesondere zur Herstellung einer dünnen Beschichtung (12) aus keramischem Material auf dem Substrat (4) eingesetzt, insbesondere zur Herstellung von integrierten Schaltungen oder Hochtemperatur-Supraleitern.