| 摘要 |
Bei einer Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats (1) mit elektrisch leitenden Materialien (2), umfassend eine Gleichstrom- und/oder eine Wechselstromquelle (10 bzw. 38), die an eine in einer evakuierbaren Beschichtungskammer (15, 15a, 15b) angeordnete Elektrode angeschlossen ist, die elektrisch mit einem Target (3, 32) in Verbindung steht, das zerstäubt wird und dessen zerstäubte Teilchen sich auf dem Substrat (1) niederschlagen, wobei in die Beschichtungskammer (15, 15a, 15b) ein Prozeßgas einbringbar ist und wobei toroidförmige Magnetfelder durch das Target hindurchgreifen, deren Feldlinien im Bereich der Magnetpole aus der Oberfläche des Targets (3) austreten, weist das Target (3) eine im wesentlichen längliche, flache, ovale Form auf und ist außerdem von einer Dunkelraumabschirmung (34) umschlossen, deren dem Substrat (1) zugewandter, umlaufender Rand (35) geringfügig die Vorderfläche der Kathodenwanne (4) übergreift, wobei die in der Kathodenwanne (4) angeordnete, auf einem Joch (6) gehaltene Magnetanordnung aus einer mittleren, sich in Targetlängsrichtung erstreckenden Reihe von schmalen Magneten (8), einer weiteren an der Randpartie des Jochs (6) angeordneten endlosen Reihe von schmalen Magneten (7, 9) und zwei Rundmagneten gebildet ist, die sich jeweils an jedem Ende der mittleren Reihe von Magneten (8) befinden. <IMAGE>
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