| 主权项 |
1﹒一种液态光敏组成物,包括:基于全部组成之(a)10-50重量%的双酚a之二缩水甘油基二丙烯酸酯及/或胺甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯,(b) 15-15重量%的乙氧化双酚A之二(甲基)丙烯酸酯,新戊基二醇及/或丁二醇,(c)0-20重量%的三羟基丙烷三(甲基)丙烯酸酯,(d) 0-10重量%的N─乙烯咯啶酮或N─乙烯己内醯胺,(e)0-10重量%的单官能(甲基)丙烯酸酯,(f)15-30重量%的一或超过一之惰性稀释剂,选自包括:c1─c12烷醇、C1─12烷二醇、c4─c12二烷酮、聚烷二醇、二─或三─烯、─羟羧酸之羟烷酯、己内醯胺、氯石蜡及二酸酯、二己二酸酯或柠檬酸酯,可得自使酸、己二酸或柠檬酸与C1─c4烷醇反应,及(g)3─7重量%的光引发剂。2﹒如申请专利范围第1项之组成物,其包括:基于全部组成物之20-45重量%的成份(a)20-45重量%的成份(b)及5-20重量%的成分(b)。3﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中成分(e)系苯氧乙基(甲基)丙烯酸酯。4﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中成分(f)系惰性稀释剂选自第三丁醇、醯、第三丁基乙酮、二丙二醇、三乙二醇、三丙二醇、─苹烯、樟脑、薴、薄荷脑、己内醯胺、2,2─二甲基─3─羟丙基2,2─二甲基─3─羟丙酸酯、二甲基己酸酯、二乙基酸酯、双(2─甲氧乙基)酸酯、及双(2─乙基己基)酸酯。5﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(f)系惰性稀释剂选自二乙、三乙或四乙二醇,二丙,三丙或四丙二醇、二丁二醇、己内醯胺、氯石蜡、2,2─二甲基─3─羟丙基2,2─二甲基─3─羟基丙酸酯,及二酸酯或柠檬酸酯可得自使酸或柠檬酸与c1─c4醇反应者。6﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中成份(g)系选自二苯乙二酮二甲基缩酮、1─(4─甲硫苯基)─2─甲基─2─吗丁─1─酮、2─异丙硫(口山)酮或1─羟环己基戊基酮、7﹒如申请专利范围第1项之组成物,其中成分(g)1─羟基环己基苯基酮。8﹒一种藉由石版术从申请专利范围第1项之组成物而制成立体物件的方法,其中用uv/vis光源依预定图样照射一层该组成物之全部表面,因此在照射区域之层以所要上厚度固化,然后新颖组成物之新层形成于该固化层上,同样地以预定图样照射全部表面,且因此由数固化层(其由重覆涂布与照射而互相黏在一起)而形成立体物件。9﹒如申请专利范围第8项之组成物,其中一雷射光束,较佳电脑控制雷射光束被用为照射光源。10﹒一种造熔模铸造术用之陶瓷壳的方法,包括将如申请专利范围第8项之立体石版术所制成的塑化模型涂布上陶瓷,于真空及温度范围从周围温度至150℃时烘焙该涂有陶瓷之塑化模型直到惰性稀释剂完全蒸发为止,然后于温度500℃以上烧灼该涂有陶瓷之塑化模型直到该塑化物完全分解为止。 |
