| 主权项 |
1.一种挟爪上残留酸之清除装置,适用于一蚀刻机台、经由一隔板与该蚀刻机台邻接的一晶舟搬送装置以及可于该蚀刻机台及该晶舟搬送装置之间移动的一晶圆搬运装置,其中该晶圆搬运装置具有一挟爪,且该晶舟搬送装置具有一平台,而上述清除装置包括:一第一托盘,以可于一第一位置与一第二位置之间转动的方式设置于该隔板上,其中当挟爪位于该蚀刻机台的区域时,该第一托盘位于该第一位置而与该隔板抵接;以及一第二托盘,设置于该平台上,其中当挟爪位于该晶舟搬送装置的区域时,该第一托盘位于该第二位置而与该第二托盘抵接。2.如申请专利范围第1项所述的挟爪上残留酸之清除装置,更包括:一驱动机构,设置于该隔板上,用以驱动该第一托盘转动;以及一转动轴,设置于该隔板上,用以供该第一托盘设置于其上。3.如申请专利范围第1或2项所述的挟爪上残留酸之清除装置,更包括:一泄流管,与该第二托盘连通。4.一种利用如申请专利范围第1项所述的挟爪上残留酸之清除装置之清除方法,包括:(a)该晶舟搬送装置具有一移动架,用以搬运承载晶圆的一晶舟,当该移动架将该晶舟搬送至该平台上时,此时使该第一托盘住于该第一位置;(b)在该移动架离开该平台后,将该第一托盘转动至该第二位置;以及(c)在该挟爪从蚀刻机台至该晶舟中挟取晶圆且再移动经过该隔板后,该第一托盘转动至该第一位置。图式简单说明:第1图系显示习知蚀刻机台及其周边设备之示意图;第2图系显示本发明之挟爪上残留酸之清除装置之示意图;第3a图系显示装有本发明之挟爪上残留酸之清除装置之蚀刻机台及其周边设备之示意图,其中第一托盘位于第二位置;以及第3b图系显示装有本发明之挟爪上残留酸之清除装置之蚀刻机台及其周边设备之示意图,其中第一托盘位于第一位置。 |
