发明名称 DEPOSITION METHOD DEPOSITION APPARATUS AND STRUCTURE
摘要 [과제] 형성되는 막의 치밀성 및 밀착성을 높이고, 박막 상태에서도 높은 절연 내압을 가지는 절연막을 형성하는 것이 가능한 성막 방법 및 성막 장치를 제공한다. [해결 수단] 본 발명의 일 실시형태에 따른 성막 방법은, 전기 절연성 원료 입자를 수용한 밀폐 용기에 가스를 도입하는 것에 의해서, 상기 원료 입자의 에어로졸을 생성하고, 상기 밀폐 용기에 접속된 반송관을 통해 상기 밀폐 용기보다 저압으로 유지된 성막실로 상기 에어로졸을 반송하고, 상기 반송관의 선단에 장착된 노즐로부터, 상기 성막실에 설치된 타겟을 향하여 상기 에어로졸을 분사하고, 상기 원료 입자를 상기 타겟에 충돌시킴으로써, 상기 원료 입자를 플러스로 대전시키고, 대전된 상기 원료 입자의 방전에 의해서, 상기 원료 입자의 미세 입자를 생성하고, 상기 미세 입자를 상기 성막실에 설치된 기재 상에 퇴적시킨다.
申请公布号 KR101671097(B1) 申请公布日期 2016.10.31
申请号 KR20150018661 申请日期 2015.02.06
申请人 유겐가이샤 후치타 나노 기켄 发明人 후치타, 에이지;도키자키, 에이지;오자와, 에이이치
分类号 H01L21/02;C23C24/04 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
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