发明名称 投影光学系、曝光装置、及曝光方法
摘要 本发明系提供一种投影光学系,其即使使用例如萤石般具有固有双折射的结晶材料,实质上亦不受双折射之影响及其有良好的光学性能。该投影光学系系包含以结晶材料所形成之结晶穿透构件,且系把第一面(R)的像在第二面(W)上形成。其具备光穿透性之相位补正构件(PC),而其系用于补正起因于结晶穿透构件之相互正交偏光成份间的相位差者。相位补正构件系以单轴性结晶所形成,且其光学轴与光学系之光轴(AX1)呈约略一致。
申请公布号 TW200402603 申请公布日期 2004.02.16
申请号 TW092107622 申请日期 2003.04.03
申请人 尼康股份有限公司 发明人 大村泰弘;小泽 稔彦
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本